光掩模坯料

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN95191612.2
申请日
1995-02-10
公开(公告)号
CN1122876C
公开(公告)日
1997-03-12
发明(设计)人
H·U·阿尔培 R·H·弗伦奇 F·D·卡尔克
申请人
申请人地址
美国得克萨斯州
IPC主分类号
G03F114
IPC分类号
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
董巍;傅康
法律状态
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国省代码
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共 50 条
[1]
光掩模坯料和光掩模 [P]. 
小泽良兼 ;
高坂卓郎 ;
稻月判臣 .
日本专利 :CN109212895B ,2024-11-22
[2]
光掩模坯料和光掩模 [P]. 
小泽良兼 ;
高坂卓郎 ;
稻月判臣 .
中国专利 :CN109212895A ,2019-01-15
[3]
光掩模坯料及制造方法 [P]. 
高坂卓郎 ;
寺泽恒男 ;
入江重夫 ;
木下隆裕 .
中国专利 :CN109085737A ,2018-12-25
[4]
光掩模坯料及制造方法 [P]. 
高坂卓郎 ;
寺泽恒男 ;
入江重夫 ;
木下隆裕 .
日本专利 :CN109085737B ,2024-07-09
[5]
光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P]. 
坂本好史 ;
小岛洋介 ;
长友达也 .
中国专利 :CN110462510A ,2019-11-15
[6]
半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法 [P]. 
吉川博树 ;
稻月判臣 ;
木名濑良纪 ;
冈崎智 ;
森田元彦 ;
佐贺匡 .
中国专利 :CN1815361A ,2006-08-09
[7]
反射掩模坯料 [P]. 
高坂卓郎 ;
生越大河 .
日本专利 :CN118226699A ,2024-06-21
[8]
相移掩模坯料、其制造方法以及相移掩模 [P]. 
高坂卓郎 .
中国专利 :CN111752086A ,2020-10-09
[9]
相移掩模坯料和相移掩模 [P]. 
高坂卓郎 .
中国专利 :CN111752087A ,2020-10-09
[10]
反射型掩模坯料、反射型掩模及反射型掩模坯料的制造方法 [P]. 
生越大河 ;
金子英雄 ;
稻月判臣 ;
高坂卓郎 .
日本专利 :CN121115389A ,2025-12-12