半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610001086.5

申请日：

2006-01-16

公开(公告)号：

CN1815361A

公开(公告)日：

2006-08-09

发明(设计)人：

吉川博树稻月判臣木名濑良纪冈崎智森田元彦佐贺匡

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

杨宏军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-12-09	授权	授权
2007-11-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-08-09	公开	公开

共 50 条

[1]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

坂本好史 ;

小岛洋介 ;

长友达也 .

中国专利 :CN110462510A ,2019-11-15

[2]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

日本专利 :CN109212895B ,2024-11-22

[3]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN109212895A ,2019-01-15

[4]

光掩模坯料 [P].

H·U·阿尔培 ;

R·H·弗伦奇 ;

F·D·卡尔克 .

中国专利 :CN1122876C ,1997-03-12

[5]

光掩模坯料及制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 ;

入江重夫 ;

木下隆裕 .

中国专利 :CN109085737A ,2018-12-25

[6]

光掩模坯料及制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 ;

入江重夫 ;

木下隆裕 .

日本专利 :CN109085737B ,2024-07-09

[7]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 ;

浅川敬司 ;

中村真实 ;

阿山兼士 ;

安森顺一 .

中国专利 :CN107861333A ,2018-03-30

[8]

光掩模及其制造方法 [P].

叶冬 ;

徐亮 .

中国专利 :CN102692815A ,2012-09-26

[9]

相移掩模坯料、其制造方法以及相移掩模 [P].

高坂卓郎 .

中国专利 :CN111752086A ,2020-10-09

[10]

反射型掩模坯料及其制造方法 [P].

寺泽恒男 ;

金子英雄 ;

三村祥平 .

中国专利 :CN115016222A ,2022-09-06

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