光掩模及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210162265.2

申请日：

2012-05-23

公开(公告)号：

CN102692815A

公开(公告)日：

2012-09-26

发明(设计)人：

叶冬徐亮

申请人：

申请人地址：

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

IPC主分类号：

G03F146

IPC分类号：

G03F148

代理机构：

深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300

代理人：

欧阳启明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-05-21	授权	授权
2012-09-26	公开	公开
2012-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101349724364 IPC(主分类):G03F 1/46 专利申请号:2012101622652 申请日:20120523

共 50 条

[1]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

坂本好史 ;

小岛洋介 ;

长友达也 .

中国专利 :CN110462510A ,2019-11-15

[2]

半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

森田元彦 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN1815361A ,2006-08-09

[3]

光掩模坯料及制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 ;

入江重夫 ;

木下隆裕 .

中国专利 :CN109085737A ,2018-12-25

[4]

光掩模坯料及制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 ;

入江重夫 ;

木下隆裕 .

日本专利 :CN109085737B ,2024-07-09

[5]

相移空白掩模及其制造方法 [P].

南基守 ;

姜亘远 ;

金东建 ;

张种沅 ;

崔珉箕 .

中国专利 :CN103376641B ,2013-10-30

[6]

反射掩模坯及其制造方法 [P].

生越大河 ;

金子英雄 ;

稻月判臣 ;

高坂卓郎 .

日本专利 :CN120065617A ,2025-05-30

[7]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

日本专利 :CN109212895B ,2024-11-22

[8]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN109212895A ,2019-01-15

[9]

反射型掩模坯料及其制造方法 [P].

寺泽恒男 ;

金子英雄 ;

三村祥平 .

中国专利 :CN115016222A ,2022-09-06

[10]

相移掩模以及相移掩模的制造方法 [P].

米丸直人 ;

黑木恭子 ;

小岛洋介 .

日本专利 :CN118696273A ,2024-09-24

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