光掩模坯料及制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810605620.6

申请日：

2018-06-13

公开(公告)号：

CN109085737A

公开(公告)日：

2018-12-25

发明(设计)人：

高坂卓郎寺泽恒男入江重夫木下隆裕

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F180

IPC分类号：

G03F184 G03F172

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

李跃龙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-25	公开	公开
2020-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/80 申请日:20180613

共 50 条

[1]

光掩模坯料及制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

寺泽恒男 ;

入江重夫 ;

木下隆裕 .

日本专利 :CN109085737B ,2024-07-09

[2]

光掩模坯料及光掩模的制造方法 [P].

深谷创一 ;

中川秀夫 ;

笹本纮平 .

中国专利 :CN103424983A ,2013-12-04

[3]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

日本专利 :CN109307982B ,2024-09-03

[4]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

中国专利 :CN109307982A ,2019-02-05

[5]

光掩模坯料 [P].

深谷创一 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN108572509A ,2018-09-25

[6]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

日本专利 :CN109212895B ,2024-11-22

[7]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN109212895A ,2019-01-15

[8]

光掩模坯料、光掩模和制造方法 [P].

稻月判臣 ;

五十岚慎一 ;

西川和宏 ;

吉川博树 .

中国专利 :CN102998894B ,2013-03-27

[9]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

坂本好史 ;

小岛洋介 ;

长友达也 .

中国专利 :CN110462510A ,2019-11-15

[10]

光掩模坯料和制造光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

日本专利 :CN111308851B ,2025-02-11

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