光掩模坯料和制造光掩模的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911264530.6

申请日：

2019-12-11

公开(公告)号：

CN111308851B

公开(公告)日：

2025-02-11

发明(设计)人：

稻月判臣笹本纮平松桥直树

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F1/26

IPC分类号：

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

李跃龙

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-11	授权	授权

共 50 条

[1]

光掩模坯料和制造光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

中国专利 :CN111308851A ,2020-06-19

[2]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

日本专利 :CN109307982B ,2024-09-03

[3]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

中国专利 :CN109307982A ,2019-02-05

[4]

光掩模坯料和制备光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

日本专利 :CN109782527B ,2024-06-25

[5]

光掩模坯料、光掩模和制造方法 [P].

稻月判臣 ;

五十岚慎一 ;

西川和宏 ;

吉川博树 .

中国专利 :CN102998894B ,2013-03-27

[6]

光掩模坯料和制备光掩模的方法 [P].

稻月判臣 ;

笹本纮平 ;

松桥直树 .

中国专利 :CN109782527A ,2019-05-21

[7]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

日本专利 :CN109212895B ,2024-11-22

[8]

光掩模坯料和光掩模 [P].

小泽良兼 ;

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN109212895A ,2019-01-15

[9]

光掩模坯料、光掩模及其制造方法 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 .

中国专利 :CN1763632B ,2006-04-26

[10]

光掩模坯料及光掩模的制造方法 [P].

深谷创一 ;

中川秀夫 ;

笹本纮平 .

中国专利 :CN103424983A ,2013-12-04

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