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光掩模坯料、光掩模及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200510112619.2
申请日
:
2005-10-11
公开(公告)号
:
CN1763632B
公开(公告)日
:
2006-04-26
发明(设计)人
:
吉川博树
稻月判臣
木名濑良纪
冈崎智
原口崇
岩片政秀
福岛祐一
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03F108
IPC分类号
:
G03F114
H01L21027
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
杨宏军
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2006-04-26
公开
公开
2007-06-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2011-02-16
授权
授权
共 50 条
[1]
光掩模坯料、光掩模和制造方法
[P].
稻月判臣
论文数:
0
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0
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稻月判臣
;
五十岚慎一
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五十岚慎一
;
西川和宏
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西川和宏
;
吉川博树
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吉川博树
.
中国专利
:CN102998894B
,2013-03-27
[2]
光掩模坯料和制造光掩模的方法
[P].
稻月判臣
论文数:
0
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0
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0
机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
稻月判臣
;
笹本纮平
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
笹本纮平
;
松桥直树
论文数:
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
松桥直树
.
日本专利
:CN111308851B
,2025-02-11
[3]
光掩模坯料和制造光掩模的方法
[P].
稻月判臣
论文数:
0
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稻月判臣
;
笹本纮平
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笹本纮平
;
松桥直树
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松桥直树
.
中国专利
:CN111308851A
,2020-06-19
[4]
光掩模坯料及光掩模
[P].
吉川博树
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吉川博树
;
稻月判臣
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稻月判臣
;
冈崎智
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冈崎智
;
原口崇
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原口崇
;
岩片政秀
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岩片政秀
;
高木干夫
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高木干夫
;
福岛祐一
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福岛祐一
;
佐贺匡
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0
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佐贺匡
.
中国专利
:CN101052917B
,2007-10-10
[5]
光掩模坯料及其制造方法
[P].
笹本纮平
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笹本纮平
;
金子英雄
论文数:
0
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0
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0
金子英雄
.
中国专利
:CN113867097A
,2021-12-31
[6]
相位偏移光掩模坯料、相位偏移光掩模及其制造方法
[P].
稻月判臣
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稻月判臣
;
吉川博树
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吉川博树
;
丸山保
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丸山保
;
冈崎智
论文数:
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冈崎智
.
中国专利
:CN1862377A
,2006-11-15
[7]
光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
[P].
田边胜
论文数:
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机构:
HOYA株式会社
HOYA株式会社
田边胜
;
浅川敬司
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机构:
HOYA株式会社
HOYA株式会社
浅川敬司
;
安森顺一
论文数:
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机构:
HOYA株式会社
HOYA株式会社
安森顺一
.
日本专利
:CN113391515B
,2025-02-25
[8]
光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
[P].
田边胜
论文数:
0
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田边胜
;
浅川敬司
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浅川敬司
;
安森顺一
论文数:
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0
安森顺一
.
中国专利
:CN113391515A
,2021-09-14
[9]
光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
[P].
田边胜
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田边胜
;
浅川敬司
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浅川敬司
;
安森顺一
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0
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安森顺一
;
石原重德
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石原重德
;
花冈修
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花冈修
.
中国专利
:CN111258175A
,2020-06-09
[10]
光掩模坯料
[P].
樱井敬佑
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
樱井敬佑
;
宫岛千晶
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
宫岛千晶
;
金子英雄
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机构:
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社
金子英雄
.
日本专利
:CN121050172A
,2025-12-02
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