一种MPCVD腔体清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110775313.4

申请日：

2021-07-08

公开(公告)号：

CN113564562A

公开(公告)日：

2021-10-29

发明(设计)人：

王洪波顾海巍褚巍

申请人：

申请人地址：

528400 广东省中山市翠亨新区马安村路口“三个五”工程厂房D栋第三层

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16511

代理机构：

广东科信启帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44710

代理人：

吴少东

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-29	公开	公开
2021-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20210708

共 50 条

[1]

一种MPCVD腔体及MPCVD装置 [P].

曹建伟 ;

朱亮 ;

倪军夫 ;

高宇 ;

张一卓 .

中国专利 :CN119824528A ,2025-04-15

[2]

一种MPCVD腔体结构及MPCVD设备 [P].

范杰 ;

黄翀 .

中国专利 :CN108149223A ,2018-06-12

[3]

一种去除MPCVD腔体内壁薄膜的工艺方法 [P].

彭国令 ;

黄翀 .

中国专利 :CN111560599A ,2020-08-21

[4]

一种MPCVD腔体结构 [P].

刘引 ;

张光 ;

罗文波 ;

刘欣 .

中国专利 :CN222961539U ,2025-06-10

[5]

MPCVD谐振腔体、MPCVD设备及其应用方法 [P].

朱昆 ;

张蔡婕 ;

颜学庆 .

中国专利 :CN119994431A ,2025-05-13

[6]

一种利用等离子体原位清洗MWCVD舱体的方法 [P].

朱嘉琦 ;

代兵 ;

舒国阳 ;

杨磊 ;

王强 ;

王杨 ;

陈亚男 ;

赵继文 ;

刘康 ;

孙明琪 ;

韩杰才 .

中国专利 :CN105177533B ,2015-12-23

[7]

一种可升降的MPCVD生长台 [P].

徐丰 ;

周健泉 .

中国专利 :CN116695099B ,2024-02-06

[8]

一种真空等离子清洗腔体 [P].

罗弦 .

中国专利 :CN217797816U ,2022-11-15

[9]

一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备 [P].

张晶 ;

王陶 ;

罗显靖 ;

胡向阳 .

中国专利 :CN223535205U ,2025-11-11

[10]

一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备 [P].

张晶 ;

王陶 ;

罗显靖 ;

胡向阳 .

中国专利 :CN223548096U ,2025-11-14

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