光刻技术方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680032449.X

申请日：

2006-09-05

公开(公告)号：

CN101258445B

公开(公告)日：

2008-09-03

发明(设计)人：

彼得·桑德贝尔根耶罗恩·H·拉默斯戴维·范斯滕温克尔

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-28	授权	授权
2008-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-10-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101587772693 IPC(主分类):G03F 7/039 专利号:ZL200680032449X 申请日:20060905 授权公告日:20110928 终止日期:20130905
2008-09-03	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻技术方法 [P].

彼得·桑德贝尔根 ;

耶罗恩·H·拉默斯 ;

戴维·范斯滕温克尔 .

中国专利 :CN101258446A ,2008-09-03

[2]

光刻方法 [P].

Y·C·裴 ;

R·贝尔 ;

朴钟根 ;

李承泫 .

中国专利 :CN103186050A ,2013-07-03

[3]

光刻方法 [P].

翁明晖 ;

吴承翰 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109212893A ,2019-01-15

[4]

光刻技术显影成分及用于光刻技术图案化的方法 [P].

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN106325002A ,2017-01-11

[5]

浸润式光刻技术的方法 [P].

林思闽 .

中国专利 :CN100507723C ,2007-10-17

[6]

光刻方法 [P].

P·D·休斯塔德 ;

J·K·朴 .

中国专利 :CN105739237A ,2016-07-06

[7]

光刻方法 [P].

刘朕与 ;

赖韦翰 ;

林子扬 ;

翁明晖 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108931892A ,2018-12-04

[8]

光刻方法 [P].

朴钟根 ;

C·N·李 ;

C·安德斯 ;

李忠奉 .

中国专利 :CN105022224A ,2015-11-04

[9]

微细光刻技术 [P].

胡思福 .

中国专利 :CN86101809A ,1987-10-07

[10]

双重图案化光刻技术 [P].

C·H·华莱士 ;

S·希瓦库马 ;

M·L·廷吉 ;

C·D·穆纳辛哈 ;

N·M·拉哈尔-乌拉比 .

中国专利 :CN104025256B ,2014-09-03

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