光刻技术显影成分及用于光刻技术图案化的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510860952.5

申请日：

2015-11-30

公开(公告)号：

CN106325002A

公开(公告)日：

2017-01-11

发明(设计)人：

赖韦翰张庆裕

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F730 G03F742 G03F156 G03F176

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101702028896 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015108609525 申请日:20151130
2018-11-02	授权	授权
2017-01-11	公开	公开

共 50 条

[1]

双重图案化光刻技术 [P].

C·H·华莱士 ;

S·希瓦库马 ;

M·L·廷吉 ;

C·D·穆纳辛哈 ;

N·M·拉哈尔-乌拉比 .

中国专利 :CN104025256B ,2014-09-03

[2]

用于光刻图案化的方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108663909A ,2018-10-16

[3]

光刻技术方法 [P].

彼得·桑德贝尔根 ;

耶罗恩·H·拉默斯 ;

戴维·范斯滕温克尔 .

中国专利 :CN101258445B ,2008-09-03

[4]

光刻技术方法 [P].

彼得·桑德贝尔根 ;

耶罗恩·H·拉默斯 ;

戴维·范斯滕温克尔 .

中国专利 :CN101258446A ,2008-09-03

[5]

用于光刻技术的检查方法 [P].

A·邓鲍夫 ;

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN102422227A ,2012-04-18

[6]

结合不同图案材料的光学光刻技术 [P].

曾晋沅 ;

洪继正 ;

陈俊光 ;

陈德芳 ;

刘如淦 ;

高蔡胜 ;

林纬良 .

中国专利 :CN106057665B ,2016-10-26

[7]

用于光刻图案化的方法 [P].

杨承翰 ;

吴宗翰 ;

张致玮 ;

林欣玫 ;

谢翊群 ;

张晞砚 .

中国专利 :CN109960106A ,2019-07-02

[8]

原子层沉积光刻技术 [P].

B·吴 ;

A·库玛 ;

O·那拉玛苏 .

中国专利 :CN104115257A ,2014-10-22

[9]

装置的光刻图案化 [P].

约翰·安德鲁·德弗兰科 ;

查尔斯·沃伦·赖特 ;

道格拉斯·罗贝特·罗贝洛 ;

弗兰克·沙维尔·伯恩 ;

黛安娜·卡罗尔·弗里曼 ;

特伦斯·罗伯特·欧图尔 .

中国专利 :CN107111254A ,2017-08-29

[10]

一种基于直接光刻技术的量子点图案化方法 [P].

唐爱伟 ;

陈仲 ;

满忠伟 .

中国专利 :CN121127098A ,2025-12-12

← 1 2 3 4 5 →