用于光刻图案化的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811435002.8

申请日：

2018-11-28

公开(公告)号：

CN109960106A

公开(公告)日：

2019-07-02

发明(设计)人：

杨承翰吴宗翰张致玮林欣玫谢翊群张晞砚

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;李伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20181128
2019-07-02	公开	公开

共 50 条

[1]

用于光刻图案化的方法 [P].

张书豪 ;

高国璋 ;

黄建元 ;

陈政宏 .

中国专利 :CN107153326A ,2017-09-12

[2]

光刻图案化方法 [P].

宋政哲 ;

朴民俊 ;

李完珪 ;

朴钟完 .

韩国专利 :CN118382913A ,2024-07-23

[3]

光刻技术显影成分及用于光刻技术图案化的方法 [P].

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN106325002A ,2017-01-11

[4]

一种光刻-冻结-光刻-刻蚀双图案化方法 [P].

李天慧 ;

王科 ;

秦俊峰 ;

于星 ;

曾伟雄 .

中国专利 :CN112530793B ,2021-03-19

[5]

用于栅极图案化的合并光刻工艺 [P].

S·S·宋 ;

Z·王 ;

C·F·耶普 .

中国专利 :CN105745747A ,2016-07-06

[6]

形成光刻胶图案的方法 [P].

朴云峰 ;

朴春培 .

中国专利 :CN101435992B ,2009-05-20

[7]

用于图案化EUV掩模上的光刻胶层的光刻系统和方法 [P].

林云跃 ;

陈嘉仁 ;

李信昌 ;

严涛南 .

中国专利 :CN105023832A ,2015-11-04

[8]

光刻设备和用于形成光刻胶图案的方法 [P].

柳龙焕 ;

朴商鎭 ;

李沙罗 ;

朱成培 .

中国专利 :CN115639725A ,2023-01-24

[9]

图案化的方法 [P].

许汉辉 ;

洪士平 ;

魏安祺 ;

吴明宗 .

中国专利 :CN101625960A ,2010-01-13

[10]

双重图案化光刻技术 [P].

C·H·华莱士 ;

S·希瓦库马 ;

M·L·廷吉 ;

C·D·穆纳辛哈 ;

N·M·拉哈尔-乌拉比 .

中国专利 :CN104025256B ,2014-09-03

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