一种光刻-冻结-光刻-刻蚀双图案化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910879855.9

申请日：

2019-09-18

公开(公告)号：

CN112530793B

公开(公告)日：

2021-03-19

发明(设计)人：

李天慧王科秦俊峰于星曾伟雄

申请人：

申请人地址：

266555 山东省青岛市黄岛区中德生态园团结路2877号ICIC办公楼4楼

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L2167 G03F700

代理机构：

北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479

代理人：

陈敏

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-19	公开	公开
2021-04-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20190918
2022-12-23	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻图案化方法 [P].

宋政哲 ;

朴民俊 ;

李完珪 ;

朴钟完 .

韩国专利 :CN118382913A ,2024-07-23

[2]

用于光刻图案化的方法 [P].

杨承翰 ;

吴宗翰 ;

张致玮 ;

林欣玫 ;

谢翊群 ;

张晞砚 .

中国专利 :CN109960106A ,2019-07-02

[3]

光刻图案化的方法 [P].

陈彦豪 ;

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121154A ,2018-06-05

[4]

光刻图案化的方法 [P].

张莉琳 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108333866B ,2018-07-27

[5]

光刻图案化的方法 [P].

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108227409B ,2018-06-29

[6]

光刻方法、刻蚀方法 [P].

沈满华 .

中国专利 :CN103105736A ,2013-05-15

[7]

一种光刻胶组合物及光刻胶图案化方法 [P].

李弋舟 ;

江启明 ;

邓辉 ;

李铁峰 .

中国专利 :CN118466115A ,2024-08-09

[8]

用于光刻图案化的方法 [P].

张书豪 ;

高国璋 ;

黄建元 ;

陈政宏 .

中国专利 :CN107153326A ,2017-09-12

[9]

自对准光刻图案化 [P].

赖史班 ;

G·贝克 ;

法兰克·W·蒙特 ;

尚利 ;

张洵渊 .

中国专利 :CN108091551A ,2018-05-29

[10]

装置的光刻图案化 [P].

特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;

约翰·安德鲁·德弗兰科 ;

弗兰克·沙维尔·伯恩 .

中国专利 :CN107112440B ,2017-08-29

← 1 2 3 4 5 →