光刻图案化的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710565649.1

申请日：

2017-07-12

公开(公告)号：

CN108227409B

公开(公告)日：

2018-06-29

发明(设计)人：

赖韦翰王建惟林进祥

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

冯志云;王芝艳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/32 申请日:20170712
2022-11-11	授权	授权
2018-06-29	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻图案化的方法 [P].

陈彦豪 ;

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121154A ,2018-06-05

[2]

光刻图案化的方法 [P].

张莉琳 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108333866B ,2018-07-27

[3]

光刻图案化方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121160A ,2018-06-05

[4]

微影图案化方法 [P].

赖韦翰 ;

张庆裕 ;

王建惟 .

中国专利 :CN107065439A ,2017-08-18

[5]

装置的光刻图案化 [P].

特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;

约翰·安德鲁·德弗兰科 ;

弗兰克·沙维尔·伯恩 .

中国专利 :CN107112440B ,2017-08-29

[6]

形成光刻图案的方法 [P].

姜锡昊 ;

C·科尔特 .

中国专利 :CN102338982A ,2012-02-01

[7]

电子装置的光刻图案化 [P].

道格拉斯·罗伯特·罗贝洛 ;

特伦斯·罗伯特·欧图尔 ;

弗兰克·沙维尔·伯恩 ;

黛安娜·卡罗尔·弗里曼 .

中国专利 :CN107251190A ,2017-10-13

[8]

用于光刻图案化的系统和方法 [P].

陈立锐 ;

梁辅杰 ;

吴雪鸿 .

中国专利 :CN103293869B ,2013-09-11

[9]

光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 [P].

朴钟根 ;

C·N·李 ;

C·安德斯 ;

D·王 .

中国专利 :CN103576458A ,2014-02-12

[10]

一种光刻-冻结-光刻-刻蚀双图案化方法 [P].

李天慧 ;

王科 ;

秦俊峰 ;

于星 ;

曾伟雄 .

中国专利 :CN112530793B ,2021-03-19

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