用于光刻图案化的系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210380843.X

申请日：

2012-10-09

公开(公告)号：

CN103293869B

公开(公告)日：

2013-09-11

发明(设计)人：

陈立锐梁辅杰吴雪鸿

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;孙征

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-03	授权	授权
2013-09-11	公开	公开
2013-10-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101529127506 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201210380843X 申请日:20121009

共 50 条

[1]

光刻图案化的方法 [P].

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108227409B ,2018-06-29

[2]

光刻图案化的方法 [P].

张莉琳 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108333866B ,2018-07-27

[3]

光刻图案化的方法 [P].

陈彦豪 ;

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121154A ,2018-06-05

[4]

光刻图案化方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121160A ,2018-06-05

[5]

用于图案化EUV掩模上的光刻胶层的光刻系统和方法 [P].

林云跃 ;

陈嘉仁 ;

李信昌 ;

严涛南 .

中国专利 :CN105023832A ,2015-11-04

[6]

浸润光刻系统、图案化半导体集成电路的浸润光刻方法 [P].

傅中其 ;

徐树彬 ;

张秀玉 .

中国专利 :CN101075095B ,2007-11-21

[7]

光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 [P].

金政会 ;

吉明君 ;

权元泽 ;

金光哲 .

中国专利 :CN1151034A ,1997-06-04

[8]

用于光刻对准的系统和方法 [P].

林育贤 ;

谢弘璋 ;

许峰嘉 ;

李俊毅 .

中国专利 :CN103913960A ,2014-07-09

[9]

用于光刻系统的光刻校准设备、方法和光刻系统 [P].

钟景山 ;

王智 ;

庄文秀 .

中国专利 :CN119828420A ,2025-04-15

[10]

用于光刻系统的图案生成器 [P].

余振华 ;

包天一 ;

吕志伟 ;

许照荣 ;

林世杰 ;

林本坚 .

中国专利 :CN103969963B ,2014-08-06

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