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用于栅极图案化的合并光刻工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201480063290.2
申请日
:
2014-10-24
公开(公告)号
:
CN105745747A
公开(公告)日
:
2016-07-06
发明(设计)人
:
S·S·宋
Z·王
C·F·耶普
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L218234
IPC分类号
:
G03F720
H01L2702
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
袁逸
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-08-03
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101672624217 IPC(主分类):H01L 21/8234 专利申请号:2014800632902 申请日:20141024
2019-02-12
授权
授权
2016-07-06
公开
公开
共 50 条
[1]
光刻工艺及用于执行光刻工艺的系统
[P].
游秋山
论文数:
0
引用数:
0
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0
游秋山
.
中国专利
:CN107546111B
,2018-01-05
[2]
光刻工艺
[P].
李永尧
论文数:
0
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0
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李永尧
;
王盈盈
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王盈盈
;
刘恒信
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刘恒信
;
林进祥
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林进祥
.
中国专利
:CN103543611B
,2014-01-29
[3]
用于光刻工艺的模拟方法
[P].
安昌男
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安昌男
;
金熙范
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金熙范
.
中国专利
:CN1187688A
,1998-07-15
[4]
用于光刻工艺的辅助部件
[P].
黄道旻
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黄道旻
;
陈嘉仁
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陈嘉仁
;
李信昌
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李信昌
;
石志聪
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石志聪
;
游信胜
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游信胜
;
陈政宏
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陈政宏
;
严涛南
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严涛南
.
中国专利
:CN105319832A
,2016-02-10
[5]
用于光刻工艺的辅助部件
[P].
黄道旻
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黄道旻
;
陈嘉仁
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陈嘉仁
;
李信昌
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李信昌
;
石志聪
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石志聪
;
游信胜
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游信胜
;
陈政宏
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陈政宏
;
严涛南
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严涛南
.
中国专利
:CN111948897A
,2020-11-17
[6]
光刻工艺方法
[P].
官锡俊
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官锡俊
.
中国专利
:CN110767540A
,2020-02-07
[7]
光刻工艺方法
[P].
冷国庆
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
冷国庆
;
邢会锋
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
邢会锋
;
尹静娟
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
尹静娟
;
陈倩
论文数:
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
陈倩
.
中国专利
:CN116072519B
,2025-12-09
[8]
光刻工艺方法
[P].
李伟峰
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李伟峰
;
王雷
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王雷
.
中国专利
:CN105527798A
,2016-04-27
[9]
实现更小线宽的光刻工艺
[P].
张煜
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张煜
;
郑海昌
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郑海昌
;
朱骏
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朱骏
.
中国专利
:CN106933064B
,2017-07-07
[10]
光刻工艺方法
[P].
游信胜
论文数:
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游信胜
;
余青芳
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余青芳
;
王文娟
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王文娟
;
许庭豪
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许庭豪
;
秦圣基
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秦圣基
;
严涛南
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严涛南
.
中国专利
:CN109307989B
,2019-02-05
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