光刻工艺及用于执行光刻工艺的系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710159715.5

申请日：

2017-03-17

公开(公告)号：

CN107546111B

公开(公告)日：

2018-01-05

发明(设计)人：

游秋山

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号

IPC主分类号：

H01L21033

IPC分类号：

H01L21308

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马雯雯;臧建明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/033 申请日:20170317
2018-01-05	公开	公开
2021-09-14	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻工艺 [P].

李永尧 ;

王盈盈 ;

刘恒信 ;

林进祥 .

中国专利 :CN103543611B ,2014-01-29

[2]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[3]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[4]

光刻工艺方法 [P].

李伟峰 ;

王雷 .

中国专利 :CN105527798A ,2016-04-27

[5]

光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN109307989B ,2019-02-05

[6]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110632829A ,2019-12-31

[7]

光刻工艺方法 [P].

刘华明 .

中国专利 :CN110634732B ,2019-12-31

[8]

光刻工艺以及光刻装置 [P].

王平 ;

许建勇 .

中国专利 :CN113296362A ,2021-08-24

[9]

光刻工艺方法及极紫外线光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN115047731A ,2022-09-13

[10]

光刻工艺监控方法及系统 [P].

董岂凡 .

中国专利 :CN118778375A ,2024-10-15

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