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光刻工艺以及光刻装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010109981.9
申请日：
2020-02-23
公开(公告)号：
CN113296362A
公开(公告)日：
2021-08-24
发明(设计)人：
王平
许建勇
申请人：
申请人地址：
330013 江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G03F900
代理机构：
北京恒博知识产权代理有限公司 11528
代理人：
范胜祥
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-08-24 | 公开 | 公开 |