光刻叠对校正以及光刻工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910439073.3

申请日：

2019-05-24

公开(公告)号：

CN110543083A

公开(公告)日：

2019-12-06

发明(设计)人：

洪爱真李永尧刘恒信王景澄王盈盈

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

龚诗靖

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 9/00 申请公布日:20191206
2019-12-06	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻工艺以及光刻装置 [P].

王平 ;

许建勇 .

中国专利 :CN113296362A ,2021-08-24

[2]

光刻工艺 [P].

李永尧 ;

王盈盈 ;

刘恒信 ;

林进祥 .

中国专利 :CN103543611B ,2014-01-29

[3]

校正光刻工艺的方法 [P].

杨正伟 ;

黄祖文 ;

黄至坚 .

中国专利 :CN115407613A ,2022-11-29

[4]

光刻工艺集成量测图形以及光刻工艺量测方法 [P].

王剑 ;

毛智彪 ;

戴韫青 .

中国专利 :CN102360168B ,2012-02-22

[5]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110767540A ,2020-02-07

[6]

光刻工艺方法 [P].

冷国庆 ;

邢会锋 ;

尹静娟 ;

陈倩 .

中国专利 :CN116072519B ,2025-12-09

[7]

光刻工艺方法 [P].

李伟峰 ;

王雷 .

中国专利 :CN105527798A ,2016-04-27

[8]

光刻工艺方法 [P].

游信胜 ;

余青芳 ;

王文娟 ;

许庭豪 ;

秦圣基 ;

严涛南 .

中国专利 :CN109307989B ,2019-02-05

[9]

光刻工艺方法 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN110632829A ,2019-12-31

[10]

光刻工艺方法 [P].

刘华明 .

中国专利 :CN110634732B ,2019-12-31

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