半导体器件的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510824825.X
申请日
2015-11-24
公开(公告)号
CN105405810B
公开(公告)日
2016-03-16
发明(设计)人
吴亚贞 刘宪周
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
H01L2711563
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的形成方法 [P]. 
卜伟海 ;
洪中山 .
中国专利 :CN103681465A ,2014-03-26
[2]
半导体器件的形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN107785265B ,2018-03-09
[3]
半导体器件的形成方法 [P]. 
何志斌 ;
景旭斌 .
中国专利 :CN105575815A ,2016-05-11
[4]
半导体器件位线形成方法、半导体器件 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN111048467B ,2024-10-22
[5]
半导体器件位线形成方法、半导体器件 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN111048467A ,2020-04-21
[6]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
程勇 ;
洪中山 .
中国专利 :CN105448725B ,2016-03-30
[7]
半导体器件及形成方法 [P]. 
杨广立 ;
俞谦荣 ;
汪铭 ;
蒲贤勇 .
中国专利 :CN104465379B ,2015-03-25
[8]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
赵海 .
中国专利 :CN105826194A ,2016-08-03
[9]
半导体器件的形成方法 [P]. 
黄敬勇 ;
何其暘 .
中国专利 :CN106298669A ,2017-01-04
[10]
半导体器件的形成方法 [P]. 
刘张李 ;
蒙飞 ;
刘宪周 .
中国专利 :CN112786524A ,2021-05-11