半导体器件的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410618097.2
申请日
2014-11-05
公开(公告)号
CN105575815A
公开(公告)日
2016-05-11
发明(设计)人
何志斌 景旭斌
申请人
申请人地址
201203 上海浦东新区张江高科技园区高斯路497号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
蔡杰赟;骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法 [P]. 
洪中山 .
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[2]
半导体器件及半导体器件的形成方法 [P]. 
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半导体器件的形成方法 [P]. 
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半导体器件的形成方法 [P]. 
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半导体器件及其形成方法 [P]. 
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半导体器件的形成方法 [P]. 
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周建华 ;
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