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一种化学机械抛光用保持环
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202120070274.3
申请日：
2021-01-12
公开(公告)号：
CN215847582U
公开(公告)日：
2022-02-18
发明(设计)人：
姚力军
边逸军
潘杰
王学泽
侯娟华
申请人：
申请人地址：
315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
IPC主分类号：
B24B3732
IPC分类号：
代理机构：
北京远智汇知识产权代理有限公司 11659
代理人：
王岩
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-18 | 授权 | 授权 |