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一种氟掺杂氧化铟锡透明导电薄膜及其制备方法
被引:0
申请号
:
CN202210477723.5
申请日
:
2022-04-28
公开(公告)号
:
CN114807856A
公开(公告)日
:
2022-07-29
发明(设计)人
:
黄靖云
陆波静
夏功伟
叶志镇
申请人
:
申请人地址
:
310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
IPC主分类号
:
C23C1408
IPC分类号
:
C23C1428
代理机构
:
杭州求是专利事务所有限公司 33200
代理人
:
万尾甜;韩介梅
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20220428
2022-07-29
公开
公开
共 50 条
[1]
氟掺杂氧化锡透明导电薄膜玻璃及其制造方法
[P].
金相学
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金相学
;
金昌烈
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金昌烈
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柳道馨
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柳道馨
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许胜宪
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许胜宪
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赵光渊
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赵光渊
;
宋哲圭
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宋哲圭
.
中国专利
:CN101372395B
,2009-02-25
[2]
氧化铟锡透明导电薄膜的制备方法
[P].
刘海笑
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刘海笑
;
王钦宁
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王钦宁
;
吴巍
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吴巍
;
李树红
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李树红
;
马英姿
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马英姿
;
董艳
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董艳
;
张仲江
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张仲江
.
中国专利
:CN101615450A
,2009-12-30
[3]
金属氧化铟锡复合透明导电薄膜及其制备方法
[P].
龚大卫
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龚大卫
;
樊永良
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樊永良
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蒋最敏
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蒋最敏
;
候晓远
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候晓远
;
王迅
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王迅
.
中国专利
:CN1257135A
,2000-06-21
[4]
一种氧化铟锡透明导电薄膜的制备方法
[P].
苏青峰
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
苏青峰
;
宋姜兴子
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
宋姜兴子
;
田敬坤
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
田敬坤
;
王传博
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
王传博
;
奚明
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
奚明
.
中国专利
:CN117721446A
,2024-03-19
[5]
超声雾化制备氟掺杂氧化锡透明导电薄膜的方法及其应用
[P].
周云
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东莞市中科智恒新材料有限公司
东莞市中科智恒新材料有限公司
周云
;
余庚
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机构:
东莞市中科智恒新材料有限公司
东莞市中科智恒新材料有限公司
余庚
.
中国专利
:CN119132737A
,2024-12-13
[6]
镓钼共掺杂铟锡氧化物陶瓷靶、透明导电薄膜及制备方法
[P].
何军辉
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何军辉
;
刘振华
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刘振华
;
刘拥军
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刘拥军
.
中国专利
:CN102181826B
,2011-09-14
[7]
透明导电铟掺杂氧化锡
[P].
K·K·乌普雷蒂
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K·K·乌普雷蒂
;
K·H·拉克达瓦拉
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K·H·拉克达瓦拉
;
R·谢伦伯格
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R·谢伦伯格
;
M·A·艾利
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M·A·艾利
.
中国专利
:CN106460154A
,2017-02-22
[8]
氟掺杂二氧化锡透明导电薄膜的制备方法
[P].
徐洪芳
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徐洪芳
;
王绩伟
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王绩伟
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李佳
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李佳
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范晓星
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范晓星
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谭天亚
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谭天亚
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卢雪梅
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卢雪梅
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康大为
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康大为
.
中国专利
:CN104451610A
,2015-03-25
[9]
铜掺杂氧化锡透明导电薄膜及其制备方法
[P].
毛启明
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毛启明
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姜来新
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姜来新
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尹桂林
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尹桂林
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何丹农
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何丹农
.
中国专利
:CN103137717A
,2013-06-05
[10]
一种锆掺杂氧化锡透明导电薄膜及其制备方法
[P].
宁洪龙
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宁洪龙
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刘贤哲
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刘贤哲
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姚日晖
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姚日晖
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张旭
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张旭
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袁炜健
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袁炜健
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张观广
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张观广
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梁志豪
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梁志豪
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梁宏富
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梁宏富
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张啸尘
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张啸尘
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彭俊彪
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彭俊彪
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中国专利
:CN109727702A
,2019-05-07
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