外延层的生长设备和外延层生长过程中的缺陷检测方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201711463957.X
申请日
2017-12-28
公开(公告)号
CN108456864A
公开(公告)日
2018-08-28
发明(设计)人
向光胜 叶青贤 喻海波 蔡云聪
申请人
申请人地址
322000 浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村(浙江四达工具有限公司内)
IPC主分类号
C23C1452
IPC分类号
C23C1454 C23C1652 C30B2300 C30B2516
代理机构
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
徐立
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
多层外延层的生长设备以及生长方法 [P]. 
张斌 ;
陈浩 ;
张峰 .
中国专利 :CN101550590A ,2009-10-07
[2]
多外延层的生长设备及生长方法 [P]. 
彭晖 ;
罗绍迪 ;
方旭凯 ;
欧鹏 ;
廖秋林 .
中国专利 :CN121110176A ,2025-12-12
[3]
LED外延层生长方法及LED外延层 [P]. 
张宇 ;
林传强 ;
农民涛 ;
周佐华 .
中国专利 :CN103952684B ,2014-07-30
[4]
外延生长设备和外延生长方法 [P]. 
马欢 ;
田娜娜 ;
葛永晖 ;
蔡历武 ;
张明 .
中国专利 :CN119913608A ,2025-05-02
[5]
LED外延层生长方法及LED外延层 [P]. 
农明涛 .
中国专利 :CN103996759A ,2014-08-20
[6]
外延生长设备和外延生长方法 [P]. 
费璐 ;
林志鑫 ;
曹共柏 ;
王华杰 ;
董晨华 ;
季文明 .
中国专利 :CN110578166A ,2019-12-17
[7]
抑制GaN衬底在外延生长过程中背面分解的方法 [P]. 
王晓亮 ;
储佳焰 ;
肖红领 ;
姜丽娟 ;
王权 ;
冯春 ;
王茜 ;
李巍 ;
刘宏新 .
中国专利 :CN111463109A ,2020-07-28
[8]
一种减少外延层缺陷密度的外延生长方法 [P]. 
韩沈丹 ;
黄宏嘉 .
中国专利 :CN104505444A ,2015-04-08
[9]
外延层、外延层生长方法及半导体结构 [P]. 
赵旭熠 ;
王玮竹 ;
尚金铭 .
中国专利 :CN119800494A ,2025-04-11
[10]
一种外延层生长方法及外延层 [P]. 
杨静雯 ;
刘勇兴 ;
周毅 ;
黄嘉宏 ;
黄国栋 .
中国专利 :CN114032611A ,2022-02-11