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外延层的生长设备和外延层生长过程中的缺陷检测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711463957.X
申请日
:
2017-12-28
公开(公告)号
:
CN108456864A
公开(公告)日
:
2018-08-28
发明(设计)人
:
向光胜
叶青贤
喻海波
蔡云聪
申请人
:
申请人地址
:
322000 浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村(浙江四达工具有限公司内)
IPC主分类号
:
C23C1452
IPC分类号
:
C23C1454
C23C1652
C30B2300
C30B2516
代理机构
:
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
:
徐立
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-07
授权
授权
2018-08-28
公开
公开
2018-09-21
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/52 申请日:20171228
共 50 条
[1]
多层外延层的生长设备以及生长方法
[P].
张斌
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张斌
;
陈浩
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陈浩
;
张峰
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张峰
.
中国专利
:CN101550590A
,2009-10-07
[2]
多外延层的生长设备及生长方法
[P].
彭晖
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机构:
桂林雷光科技有限公司
桂林雷光科技有限公司
彭晖
;
罗绍迪
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机构:
桂林雷光科技有限公司
桂林雷光科技有限公司
罗绍迪
;
方旭凯
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机构:
桂林雷光科技有限公司
桂林雷光科技有限公司
方旭凯
;
欧鹏
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机构:
桂林雷光科技有限公司
桂林雷光科技有限公司
欧鹏
;
廖秋林
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机构:
桂林雷光科技有限公司
桂林雷光科技有限公司
廖秋林
.
中国专利
:CN121110176A
,2025-12-12
[3]
LED外延层生长方法及LED外延层
[P].
张宇
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张宇
;
林传强
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林传强
;
农民涛
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农民涛
;
周佐华
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周佐华
.
中国专利
:CN103952684B
,2014-07-30
[4]
外延生长设备和外延生长方法
[P].
马欢
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
马欢
;
田娜娜
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
田娜娜
;
葛永晖
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
葛永晖
;
蔡历武
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
蔡历武
;
张明
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
张明
.
中国专利
:CN119913608A
,2025-05-02
[5]
LED外延层生长方法及LED外延层
[P].
农明涛
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农明涛
.
中国专利
:CN103996759A
,2014-08-20
[6]
外延生长设备和外延生长方法
[P].
费璐
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费璐
;
林志鑫
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林志鑫
;
曹共柏
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曹共柏
;
王华杰
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王华杰
;
董晨华
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董晨华
;
季文明
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季文明
.
中国专利
:CN110578166A
,2019-12-17
[7]
抑制GaN衬底在外延生长过程中背面分解的方法
[P].
王晓亮
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王晓亮
;
储佳焰
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储佳焰
;
肖红领
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肖红领
;
姜丽娟
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姜丽娟
;
王权
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王权
;
冯春
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冯春
;
王茜
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王茜
;
李巍
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李巍
;
刘宏新
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刘宏新
.
中国专利
:CN111463109A
,2020-07-28
[8]
一种减少外延层缺陷密度的外延生长方法
[P].
韩沈丹
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韩沈丹
;
黄宏嘉
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黄宏嘉
.
中国专利
:CN104505444A
,2015-04-08
[9]
外延层、外延层生长方法及半导体结构
[P].
赵旭熠
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
赵旭熠
;
王玮竹
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
王玮竹
;
尚金铭
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
尚金铭
.
中国专利
:CN119800494A
,2025-04-11
[10]
一种外延层生长方法及外延层
[P].
杨静雯
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杨静雯
;
刘勇兴
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刘勇兴
;
周毅
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周毅
;
黄嘉宏
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黄嘉宏
;
黄国栋
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黄国栋
.
中国专利
:CN114032611A
,2022-02-11
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