基板处理装置、液处理方法以及存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710142468.8

申请日：

2017-03-10

公开(公告)号：

CN107275253B

公开(公告)日：

2017-10-20

发明(设计)人：

藤田阳水野刚资

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-20	公开	公开
2018-10-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170310
2021-12-14	授权	授权

共 50 条

[1]

基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质 [P].

本田拓巳 ;

佐野和成 ;

百武宏展 .

中国专利 :CN110556294A ,2019-12-10

[2]

基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质 [P].

田中裕司 ;

平山司 ;

稻田尊士 .

中国专利 :CN107492511A ,2017-12-19

[3]

基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质 [P].

土屋孝文 ;

石井佑树 ;

益富裕之 ;

藤津成吾 .

中国专利 :CN109494152A ,2019-03-19

[4]

基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质 [P].

益富裕之 ;

盐川俊行 ;

田中幸二 ;

佐藤尊三 .

中国专利 :CN107644824A ,2018-01-30

[5]

基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质 [P].

佐藤秀明 .

中国专利 :CN107579020A ,2018-01-12

[6]

基板液处理方法、基板液处理装置以及存储介质 [P].

本田拓巳 ;

佐野和成 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110556294B ,2024-07-09

[7]

液处理方法、基板处理装置以及存储介质 [P].

丸山裕隆 .

中国专利 :CN107154371A ,2017-09-12

[8]

基板处理方法、存储介质以及基板处理装置 [P].

野田朋宏 ;

武内亮太 ;

加藤宽三 ;

高柳康治 .

中国专利 :CN114141657A ,2022-03-04

[9]

基板处理方法、基板处理装置以及存储介质 [P].

铃木启之 ;

佐佐木佑美 .

日本专利 :CN119422228A ,2025-02-11

[10]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

加藤宽三 .

中国专利 :CN114616056A ,2022-06-10

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