屏蔽栅功率MOSFET的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610329379.X
申请日
2016-05-18
公开(公告)号
CN106024607A
公开(公告)日
2016-10-12
发明(设计)人
柯行飞
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
H01L2906 H01L2940
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
郭四华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
屏蔽栅功率MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
王宇澄 ;
张子敏 .
中国专利 :CN111129157A ,2020-05-08
[2]
具有屏蔽栅的沟槽栅功率器件的制造方法 [P]. 
柯行飞 .
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[3]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法 [P]. 
颜树范 .
中国专利 :CN106057675B ,2016-10-26
[4]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法 [P]. 
范让萱 ;
缪进征 .
中国专利 :CN106057674B ,2016-10-26
[5]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法 [P]. 
颜树范 .
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[6]
屏蔽栅沟槽MOSFET制造方法 [P]. 
潘光燃 .
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[7]
沟槽栅功率MOSFET及制造方法 [P]. 
颜树范 .
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[8]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
邵向荣 .
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[9]
屏蔽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
李东升 .
中国专利 :CN105957893A ,2016-09-21
[10]
具有屏蔽栅的沟槽栅MOSFET的制造方法 [P]. 
李东升 .
中国专利 :CN105895516A ,2016-08-24