学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
屏蔽栅功率MOSFET的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610329379.X
申请日
:
2016-05-18
公开(公告)号
:
CN106024607A
公开(公告)日
:
2016-10-12
发明(设计)人
:
柯行飞
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
:
H01L2128
IPC分类号
:
H01L2906
H01L2940
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
郭四华
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-10-12
公开
公开
2019-01-04
授权
授权
2016-11-09
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101687266434 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:201610329379X 申请日:20160518
共 50 条
[1]
屏蔽栅功率MOSFET器件及其制造方法
[P].
王宇澄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王宇澄
;
张子敏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张子敏
.
中国专利
:CN111129157A
,2020-05-08
[2]
具有屏蔽栅的沟槽栅功率器件的制造方法
[P].
柯行飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
柯行飞
.
中国专利
:CN105957811A
,2016-09-21
[3]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法
[P].
颜树范
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
颜树范
.
中国专利
:CN106057675B
,2016-10-26
[4]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法
[P].
范让萱
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
范让萱
;
缪进征
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
缪进征
.
中国专利
:CN106057674B
,2016-10-26
[5]
屏蔽栅沟槽MOSFET的制造方法
[P].
颜树范
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
颜树范
.
中国专利
:CN105870022A
,2016-08-17
[6]
屏蔽栅沟槽MOSFET制造方法
[P].
潘光燃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
潘光燃
.
中国专利
:CN110429033A
,2019-11-08
[7]
沟槽栅功率MOSFET及制造方法
[P].
颜树范
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
颜树范
.
中国专利
:CN109817720A
,2019-05-28
[8]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法
[P].
邵向荣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
邵向荣
.
中国专利
:CN105551965A
,2016-05-04
[9]
屏蔽栅功率MOSFET及其制造方法
[P].
李东升
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李东升
.
中国专利
:CN105957893A
,2016-09-21
[10]
具有屏蔽栅的沟槽栅MOSFET的制造方法
[P].
李东升
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李东升
.
中国专利
:CN105895516A
,2016-08-24
←
1
2
3
4
5
→