一种折射率可调的SiO2减反射膜的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810513311.6

申请日：

2018-05-25

公开(公告)号：

CN108761581B

公开(公告)日：

2018-11-06

发明(设计)人：

陶朝友张林邹鑫书严鸿维袁晓东

申请人：

申请人地址：

621999 四川省绵阳市游仙区科学城919信箱987分箱

IPC主分类号：

G02B1113

IPC分类号：

C03C1725

代理机构：

南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204

代理人：

李倩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/113 申请日:20180525
2018-11-06	公开	公开
2020-05-12	授权	授权

共 50 条

[1]

一种超低折射率SiO2减反射膜的制备方法 [P].

陶朝友 ;

张林 ;

邹鑫书 .

中国专利 :CN109665720B ,2019-04-23

[2]

双层低折射率减反射膜的制备方法 [P].

刘振宇 .

中国专利 :CN104711551A ,2015-06-17

[3]

一种渐变折射率减反射膜的制备方法 [P].

陈俊武 ;

王彪 ;

杨毅 ;

许高杰 ;

崔平 .

中国专利 :CN102517620B ,2012-06-27

[4]

一种SiO2/TiO2减反射膜的制备方法 [P].

张林 ;

陶朝友 ;

袁晓东 ;

倪卫 ;

严鸿维 ;

晏良宏 .

中国专利 :CN106348616A ,2017-01-25

[5]

一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法 [P].

张晓丹 ;

李兴亮 ;

李仁杰 ;

周佳凯 ;

张奇星 ;

任宁宇 ;

陈兵兵 ;

许盛之 ;

侯国付 ;

赵颖 .

中国专利 :CN113921620B ,2024-10-29

[6]

一种折射率渐变特性的减反射膜的制备方法 [P].

张晓丹 ;

李兴亮 ;

李仁杰 ;

周佳凯 ;

张奇星 ;

任宁宇 ;

陈兵兵 ;

许盛之 ;

侯国付 ;

赵颖 .

中国专利 :CN113921620A ,2022-01-11

[7]

一种制备超疏水、低折射率增透膜的方法 [P].

熊政伟 ;

高志鹏 ;

李俊 ;

魏占涛 ;

竹文坤 ;

刘潇如 .

中国专利 :CN117505218A ,2024-02-06

[8]

一种制备超疏水、低折射率增透膜的方法 [P].

熊政伟 ;

高志鹏 ;

李俊 ;

魏占涛 ;

竹文坤 ;

刘潇如 .

中国专利 :CN117505218B ,2025-08-05

[9]

低折射率纳米材料减反射膜 [P].

刘永生 ;

杨文华 .

中国专利 :CN101431110A ,2009-05-13

[10]

低折射率材料和减反射膜 [P].

吉田达朗 ;

木村育弘 ;

渡边谦二 ;

池田智之 ;

伊藤哲也 ;

后藤义隆 .

中国专利 :CN1410484A ,2003-04-16

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