投射光刻的照明光学单元

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201980010827.1
申请日
2019-01-03
公开(公告)号
CN111656245A
公开(公告)日
2020-09-11
发明(设计)人
M.帕特拉
申请人
申请人地址
德国上科亨
IPC主分类号
G02B1900
IPC分类号
G03F720
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
王蕊瑞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
EUV投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M.恩德雷斯 ;
R.米勒 ;
S.比林 .
中国专利 :CN107111242B ,2017-08-29
[2]
用于投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M.莫尔 .
中国专利 :CN104364715A ,2015-02-18
[3]
用于投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M.恩德雷斯 .
中国专利 :CN106030415A ,2016-10-12
[4]
用于投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M.恩德雷斯 .
中国专利 :CN111176077B ,2022-09-06
[5]
用于投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M·帕特拉 .
德国专利 :CN119096195A ,2024-12-06
[6]
EUV投射光刻的照明光学单元 [P]. 
M.帕特拉 .
中国专利 :CN107272345B ,2017-10-20
[7]
投射光刻的照明光学装置 [P]. 
S.比玲 ;
M.德冈瑟 .
中国专利 :CN111656252B ,2020-09-11
[8]
EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P]. 
M.帕特拉 ;
M.德冈瑟 .
中国专利 :CN104246617B ,2014-12-24
[9]
用于光刻投射曝光设备的色差校正成像照明光学单元 [P]. 
S·比林 ;
M·施瓦布 ;
A·埃普勒 ;
H·梅纳特 .
德国专利 :CN120584323A ,2025-09-02
[10]
投射曝光设备的照明光学单元 [P]. 
I.桑格 .
中国专利 :CN104169800B ,2014-11-26