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投射光刻的照明光学单元
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980010827.1
申请日
:
2019-01-03
公开(公告)号
:
CN111656245A
公开(公告)日
:
2020-09-11
发明(设计)人
:
M.帕特拉
申请人
:
申请人地址
:
德国上科亨
IPC主分类号
:
G02B1900
IPC分类号
:
G03F720
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
王蕊瑞
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-02-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 19/00 申请日:20190103
2020-09-11
公开
公开
共 50 条
[1]
EUV投射光刻的照明光学单元
[P].
M.恩德雷斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.恩德雷斯
;
R.米勒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
R.米勒
;
S.比林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S.比林
.
中国专利
:CN107111242B
,2017-08-29
[2]
用于投射光刻的照明光学单元
[P].
M.莫尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.莫尔
.
中国专利
:CN104364715A
,2015-02-18
[3]
用于投射光刻的照明光学单元
[P].
M.恩德雷斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.恩德雷斯
.
中国专利
:CN106030415A
,2016-10-12
[4]
用于投射光刻的照明光学单元
[P].
M.恩德雷斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.恩德雷斯
.
中国专利
:CN111176077B
,2022-09-06
[5]
用于投射光刻的照明光学单元
[P].
M·帕特拉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
M·帕特拉
.
德国专利
:CN119096195A
,2024-12-06
[6]
EUV投射光刻的照明光学单元
[P].
M.帕特拉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.帕特拉
.
中国专利
:CN107272345B
,2017-10-20
[7]
投射光刻的照明光学装置
[P].
S.比玲
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S.比玲
;
M.德冈瑟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.德冈瑟
.
中国专利
:CN111656252B
,2020-09-11
[8]
EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统
[P].
M.帕特拉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.帕特拉
;
M.德冈瑟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.德冈瑟
.
中国专利
:CN104246617B
,2014-12-24
[9]
用于光刻投射曝光设备的色差校正成像照明光学单元
[P].
S·比林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
S·比林
;
M·施瓦布
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
M·施瓦布
;
A·埃普勒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
A·埃普勒
;
H·梅纳特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
H·梅纳特
.
德国专利
:CN120584323A
,2025-09-02
[10]
投射曝光设备的照明光学单元
[P].
I.桑格
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
I.桑格
.
中国专利
:CN104169800B
,2014-11-26
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