用于光刻投射曝光设备的色差校正成像照明光学单元

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480009011.8

申请日：

2024-01-19

公开(公告)号：

CN120584323A

公开(公告)日：

2025-09-02

发明(设计)人：

S·比林 M·施瓦布 A·埃普勒 H·梅纳特

申请人：

卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G02B13/14

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-02	公开	公开

共 50 条

[1]

投射曝光设备的照明光学单元 [P].

I.桑格 .

中国专利 :CN104169800B ,2014-11-26

[2]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104364715A ,2015-02-18

[3]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN106030415A ,2016-10-12

[4]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN111176077B ,2022-09-06

[5]

投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN111656245A ,2020-09-11

[6]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M·帕特拉 .

德国专利 :CN119096195A ,2024-12-06

[7]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 ;

R.米勒 ;

S.比林 .

中国专利 :CN107111242B ,2017-08-29

[8]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107272345B ,2017-10-20

[9]

投射曝光系统的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 ;

S.比林 ;

M.德冈瑟 ;

R.米勒 .

中国专利 :CN106716254B ,2017-05-24

[10]

用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜 [P].

W.安德尔 ;

C.科纳 ;

H.奥尔德雷 ;

M.霍尔兹 ;

M.斯通皮 ;

S.塞茨 .

中国专利 :CN114730136A ,2022-07-08

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