投射曝光系统的照明光学单元

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580050425.6

申请日：

2015-10-02

公开(公告)号：

CN106716254B

公开(公告)日：

2017-05-24

发明(设计)人：

M.帕特拉 S.比林 M.德冈瑟 R.米勒

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-22	授权	授权
2017-11-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20151002
2017-05-24	公开	公开

共 50 条

[1]

投射曝光设备的照明光学单元 [P].

I.桑格 .

中国专利 :CN104169800B ,2014-11-26

[2]

投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN111656245A ,2020-09-11

[3]

用于投射曝光系统的照明光学单元的分面反射镜的单独反射镜 [P].

R·阿梅林 ;

J·艾森门格 .

德国专利 :CN121079626A ,2025-12-05

[4]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M·帕特拉 .

德国专利 :CN119096195A ,2024-12-06

[5]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN106030415A ,2016-10-12

[6]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN111176077B ,2022-09-06

[7]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 ;

R.米勒 ;

S.比林 .

中国专利 :CN107111242B ,2017-08-29

[8]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107272345B ,2017-10-20

[9]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104364715A ,2015-02-18

[10]

EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P].

M.帕特拉 ;

M.德冈瑟 .

中国专利 :CN104246617B ,2014-12-24

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