用于投射光刻的照明光学单元

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380027803.X

申请日：

2013-05-06

公开(公告)号：

CN104364715A

公开(公告)日：

2015-02-18

发明(设计)人：

M.莫尔

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军;陈金林

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-05	授权	授权
2015-02-18	公开	公开
2015-06-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101614949155 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201380027803X 申请日:20130506

共 50 条

[1]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN106030415A ,2016-10-12

[2]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN111176077B ,2022-09-06

[3]

投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN111656245A ,2020-09-11

[4]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M·帕特拉 .

德国专利 :CN119096195A ,2024-12-06

[5]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 ;

R.米勒 ;

S.比林 .

中国专利 :CN107111242B ,2017-08-29

[6]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107272345B ,2017-10-20

[7]

投射光刻的照明光学装置 [P].

S.比玲 ;

M.德冈瑟 .

中国专利 :CN111656252B ,2020-09-11

[8]

用于光刻投射曝光设备的色差校正成像照明光学单元 [P].

S·比林 ;

M·施瓦布 ;

A·埃普勒 ;

H·梅纳特 .

德国专利 :CN120584323A ,2025-09-02

[9]

用于微光刻的照明光学单元 [P].

D.菲奥尔卡 ;

R.施图茨尔 .

中国专利 :CN102549461A ,2012-07-04

[10]

用于微光刻的照明光学单元 [P].

达米安.菲奥尔卡 ;

迈克尔.托特泽克 ;

哈特穆特.恩基希 ;

斯蒂芬.米伦德 .

中国专利 :CN102112925A ,2011-06-29

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