用于微光刻的照明光学单元

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980129636.3

申请日：

2009-05-27

公开(公告)号：

CN102112925A

公开(公告)日：

2011-06-29

发明(设计)人：

达米安.菲奥尔卡迈克尔.托特泽克哈特穆特.恩基希斯蒂芬.米伦德

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L2100

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101096111612 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801296363 申请日:20090527
2014-06-11	授权	授权
2011-06-29	公开	公开

共 50 条

[1]

用于微光刻的照明光学单元 [P].

D.菲奥尔卡 ;

R.施图茨尔 .

中国专利 :CN102549461A ,2012-07-04

[2]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M·帕特拉 .

德国专利 :CN119096195A ,2024-12-06

[3]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.莫尔 .

中国专利 :CN104364715A ,2015-02-18

[4]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN106030415A ,2016-10-12

[5]

用于投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 .

中国专利 :CN111176077B ,2022-09-06

[6]

用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101477317B ,2009-07-08

[7]

投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN111656245A ,2020-09-11

[8]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.恩德雷斯 ;

R.米勒 ;

S.比林 .

中国专利 :CN107111242B ,2017-08-29

[9]

EUV投射光刻的照明光学单元 [P].

M.帕特拉 .

中国专利 :CN107272345B ,2017-10-20

[10]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101216676A ,2008-07-09

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