微波等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910118365.3

申请日：

2009-02-27

公开(公告)号：

CN101521151B

公开(公告)日：

2009-09-02

发明(设计)人：

平山昌树大见忠弘

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2120 H01L213065 H01L2131 H01L21311 H05H100

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-24	授权	授权
2009-09-02	公开	公开
2009-10-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2016-04-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101655730778 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2009101183653 申请日:20090227 授权公告日:20110824 终止日期:20150227

共 50 条

[1]

微波等离子体处理装置 [P].

石桥清隆 .

中国专利 :CN102362557A ,2012-02-22

[2]

等离子体处理装置 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN102246604A ,2011-11-16

[3]

等离子体处理装置 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102293063A ,2011-12-21

[4]

微波等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

小松智仁 ;

镰田英纪 ;

佐藤幹夫 .

中国专利 :CN109982500B ,2019-07-05

[5]

微波等离子体处理装置 [P].

金载浩 ;

榊田创 .

中国专利 :CN107432076A ,2017-12-01

[6]

等离子体处理装置、天线和等离子体处理装置的使用方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN101370350A ,2009-02-18

[7]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[8]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057760A ,2011-05-11

[9]

微波导入机构、微波等离子体源和微波等离子体处理装置 [P].

池田太郎 .

中国专利 :CN101971302B ,2011-02-09

[10]

微波等离子体处理装置及其制造方法、等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 .

中国专利 :CN101048029A ,2007-10-03

← 1 2 3 4 5 →