微波等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680012223.7

申请日：

2016-02-22

公开(公告)号：

CN107432076A

公开(公告)日：

2017-12-01

发明(设计)人：

金载浩榊田创

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

B01J1908 C23C16455 C23C16511 C23C16513 H05H146

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

宋融冰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-01	公开	公开
2017-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20160222

共 50 条

[1]

微波等离子体处理装置 [P].

金载浩 ;

神田创 .

中国专利 :CN105684558B ,2016-06-15

[2]

微波等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

小松智仁 ;

镰田英纪 ;

佐藤幹夫 .

中国专利 :CN109982500B ,2019-07-05

[3]

微波等离子体处理装置 [P].

石桥清隆 .

中国专利 :CN102362557A ,2012-02-22

[4]

微波等离子体处理装置 [P].

川上総一郎 ;

金井正博 ;

新井孝至 ;

村上勉 .

中国专利 :CN1029992C ,1990-01-10

[5]

微波等离子体处理装置 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN101521151B ,2009-09-02

[6]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[7]

微波等离子体处理装置的顶板、等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

石桥清隆 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101953236A ,2011-01-19

[8]

微波导入机构、微波等离子体源和微波等离子体处理装置 [P].

池田太郎 .

中国专利 :CN101971302B ,2011-02-09

[9]

微波等离子体处理装置及其制造方法、等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 .

中国专利 :CN101048029A ,2007-10-03

[10]

微波等离子体处理装置 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101036420A ,2007-09-12

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