微波等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480048097.1

申请日：

2014-08-29

公开(公告)号：

CN105684558B

公开(公告)日：

2016-06-15

发明(设计)人：

金载浩神田创

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H05H130

IPC分类号：

C23C16511 C23C16513 H01L213065 H05H134

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司 11245

代理人：

王永伟;赵蓉民

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-22	授权	授权
2016-06-15	公开	公开
2016-07-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101669707394 IPC(主分类):H05H 1/30 专利申请号:2014800480971 申请日:20140829

共 50 条

[1]

微波等离子体处理装置 [P].

金载浩 ;

榊田创 .

中国专利 :CN107432076A ,2017-12-01

[2]

微波等离子体处理装置的顶板、等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

石桥清隆 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101953236A ,2011-01-19

[3]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

小松智仁 ;

池田太郎 ;

藤野丰 .

中国专利 :CN104717820B ,2015-06-17

[4]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

河西繁 .

中国专利 :CN101385129B ,2009-03-11

[5]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 .

中国专利 :CN102458032A ,2012-05-16

[6]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[7]

微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法 [P].

大见忠弘 ;

平山昌树 ;

须川成利 ;

后藤哲也 .

中国专利 :CN1242656C ,2004-05-26

[8]

微波等离子体处理装置 [P].

田才忠 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101036420A ,2007-09-12

[9]

微波等离子体处理装置 [P].

山崎幸一 ;

佐野正树 .

中国专利 :CN101213643A ,2008-07-02

[10]

微波等离子体处理装置 [P].

小林亮 ;

山田幸司 ;

仓岛秀夫 ;

并木恒久 ;

蓝原武志 ;

小野泽康哲 .

中国专利 :CN100453695C ,2006-04-12

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