微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02807326.6

申请日：

2002-03-28

公开(公告)号：

CN1242656C

公开(公告)日：

2004-05-26

发明(设计)人：

大见忠弘平山昌树须川成利后藤哲也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

王怡

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-02-15	授权	授权
2015-05-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101611008537 IPC(主分类):H05H 1/46 专利号:ZL028073266 申请日:20020328 授权公告日:20060215 终止日期:20140328
2004-08-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2004-05-26	公开	公开

共 50 条

[1]

微波等离子体处理装置的顶板、等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

田才忠 ;

石桥清隆 ;

野泽俊久 .

中国专利 :CN101953236A ,2011-01-19

[2]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 .

中国专利 :CN102458032A ,2012-05-16

[3]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

平山昌树 ;

大见忠弘 .

中国专利 :CN102057760A ,2011-05-11

[4]

微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法 [P].

中川清和 ;

宇佐美由久 .

日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07

[5]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

小松智仁 ;

池田太郎 ;

藤野丰 .

中国专利 :CN104717820B ,2015-06-17

[6]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

河西繁 .

中国专利 :CN101385129B ,2009-03-11

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 .

中国专利 :CN101005007A ,2007-07-25

[9]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN107452589B ,2017-12-08

[10]

等离子体处理装置和等离子体控制方法 [P].

輿水地盐 ;

传宝一树 .

中国专利 :CN102376521A ,2012-03-14

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