微波等离子体处理装置的顶板、等离子体处理装置以及等离子体处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN200980105252.8
申请日
2009-02-10
公开(公告)号
CN101953236A
公开(公告)日
2011-01-19
发明(设计)人
田才忠 石桥清隆 野泽俊久
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H05H146
IPC分类号
H01L213065
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
柳春雷;南霆
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
具滋明 ;
肖特拉克尔言 ;
具重谟 ;
赵台勋 .
韩国专利 :CN112151344B ,2024-07-09
[2]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
具滋明 ;
肖特拉克尔言 ;
具重谟 ;
赵台勋 .
中国专利 :CN112151344A ,2020-12-29
[3]
微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法 [P]. 
大见忠弘 ;
平山昌树 ;
须川成利 ;
后藤哲也 .
中国专利 :CN1242656C ,2004-05-26
[4]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
奥村智洋 ;
川浦广 .
中国专利 :CN104641730A ,2015-05-20
[5]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
山泽阳平 ;
舆水地盐 ;
齐藤昌司 ;
传宝一树 ;
山涌纯 ;
饭塚八城 .
中国专利 :CN102054649A ,2011-05-11
[6]
等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P]. 
武藤悟 ;
小野哲郎 ;
大越康雄 ;
永德宏文 .
中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15
[7]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
里吉务 .
中国专利 :CN1477682A ,2004-02-25
[8]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
森本未知数 ;
大越康雄 ;
大平原勇造 ;
小野哲郎 .
中国专利 :CN103632914A ,2014-03-12
[9]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
久保田绅治 .
中国专利 :CN107452589B ,2017-12-08
[10]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P]. 
舟久保隆男 ;
芳贺博文 ;
狐塚慎一 ;
小澤亘 ;
坂本晃浩 ;
谷口直树 ;
辻本宏 ;
大野久美子 .
中国专利 :CN105225913B ,2016-01-06