一种半导体晶圆晶清洗方法

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专利类型
发明
申请号
CN202110333290.1
申请日
2021-03-29
公开(公告)号
CN113257658A
公开(公告)日
2021-08-13
发明(设计)人
钱诚 李刚 霍召军
申请人
申请人地址
214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大道111-12号国家软件园鲸鱼座C403
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
H01L2167 H01L21677
代理机构
北京商专润文专利代理事务所(普通合伙) 11317
代理人
陈平
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体晶圆清洗方法 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
霍召军 .
中国专利 :CN113257658B ,2024-01-30
[2]
一种半导体晶圆晶清洗装置 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
吴清 .
中国专利 :CN113257730A ,2021-08-13
[3]
一种半导体晶圆晶清洗槽 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
夏振 .
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[4]
半导体晶圆的清洗方法、半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆 [P]. 
柳井凉一 .
日本专利 :CN120731491A ,2025-09-30
[5]
半导体晶圆的清洗方法 [P]. 
翁国权 .
中国专利 :CN108597987A ,2018-09-28
[6]
半导体晶圆清洗装置 [P]. 
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汪曦凌 .
中国专利 :CN203862609U ,2014-10-08
[7]
半导体晶圆清洗装置 [P]. 
汪良恩 ;
汪曦凌 .
中国专利 :CN103878141A ,2014-06-25
[8]
一种半导体晶圆清洗装置 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
童建 .
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[9]
一种半导体晶圆清洗装置 [P]. 
马红方 ;
李正亮 ;
张冬林 .
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[10]
一种半导体晶圆清洗装置 [P]. 
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赵天翔 ;
丁宏程 .
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