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一种半导体晶圆晶清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110333290.1
申请日
:
2021-03-29
公开(公告)号
:
CN113257658A
公开(公告)日
:
2021-08-13
发明(设计)人
:
钱诚
李刚
霍召军
申请人
:
申请人地址
:
214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大道111-12号国家软件园鲸鱼座C403
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
H01L2167
H01L21677
代理机构
:
北京商专润文专利代理事务所(普通合伙) 11317
代理人
:
陈平
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-31
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20210329
2021-08-13
公开
公开
共 50 条
[1]
一种半导体晶圆清洗方法
[P].
钱诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
无锡亚电智能装备有限公司
无锡亚电智能装备有限公司
钱诚
;
李刚
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0
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机构:
无锡亚电智能装备有限公司
无锡亚电智能装备有限公司
李刚
;
霍召军
论文数:
0
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0
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0
机构:
无锡亚电智能装备有限公司
无锡亚电智能装备有限公司
霍召军
.
中国专利
:CN113257658B
,2024-01-30
[2]
一种半导体晶圆晶清洗装置
[P].
钱诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
钱诚
;
李刚
论文数:
0
引用数:
0
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0
李刚
;
吴清
论文数:
0
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0
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0
吴清
.
中国专利
:CN113257730A
,2021-08-13
[3]
一种半导体晶圆晶清洗槽
[P].
钱诚
论文数:
0
引用数:
0
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0
钱诚
;
李刚
论文数:
0
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0
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0
李刚
;
夏振
论文数:
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0
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0
夏振
.
中国专利
:CN215613640U
,2022-01-25
[4]
半导体晶圆的清洗方法、半导体晶圆的制造方法及半导体晶圆
[P].
柳井凉一
论文数:
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0
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机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
柳井凉一
.
日本专利
:CN120731491A
,2025-09-30
[5]
半导体晶圆的清洗方法
[P].
翁国权
论文数:
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翁国权
.
中国专利
:CN108597987A
,2018-09-28
[6]
半导体晶圆清洗装置
[P].
汪良恩
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0
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汪良恩
;
汪曦凌
论文数:
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汪曦凌
.
中国专利
:CN203862609U
,2014-10-08
[7]
半导体晶圆清洗装置
[P].
汪良恩
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汪良恩
;
汪曦凌
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0
汪曦凌
.
中国专利
:CN103878141A
,2014-06-25
[8]
一种半导体晶圆清洗装置
[P].
钱诚
论文数:
0
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0
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钱诚
;
李刚
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0
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李刚
;
童建
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童建
.
中国专利
:CN214254363U
,2021-09-21
[9]
一种半导体晶圆清洗装置
[P].
马红方
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马红方
;
李正亮
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李正亮
;
张冬林
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张冬林
.
中国专利
:CN216539810U
,2022-05-17
[10]
一种半导体晶圆清洗装置
[P].
华斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州智程半导体科技股份有限公司
苏州智程半导体科技股份有限公司
华斌
;
赵天翔
论文数:
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机构:
苏州智程半导体科技股份有限公司
苏州智程半导体科技股份有限公司
赵天翔
;
丁宏程
论文数:
0
引用数:
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机构:
苏州智程半导体科技股份有限公司
苏州智程半导体科技股份有限公司
丁宏程
.
中国专利
:CN120394457A
,2025-08-01
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