一种高纯铜的制备装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420297345.3

申请日：

2014-06-06

公开(公告)号：

CN203890449U

公开(公告)日：

2014-10-22

发明(设计)人：

姜澜杜婷婷李咸阳郑瑶蒲正浩杨浩张志扬

申请人：

申请人地址：

110819 辽宁省沈阳市和平区文化路三巷11号

IPC主分类号：

C25C112

IPC分类号：

C25C700

代理机构：

沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107

代理人：

韩辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-10-22	授权	授权
2018-06-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25C 1/12 申请日:20140606 授权公告日:20141022 终止日期:20170606

共 50 条

[1]

一种制备高纯铜的方法及装置 [P].

姜澜 ;

付高峰 ;

杜婷婷 ;

李咸阳 ;

刘龙 ;

郑瑶 .

中国专利 :CN105132944A ,2015-12-09

[2]

一种高纯铜的制备方法 [P].

胡智向 ;

朱刘 ;

吴广杰 ;

贺权涛 .

中国专利 :CN114525549A ,2022-05-24

[3]

高纯铜的制备方法 [P].

朱刘 ;

朱世明 .

中国专利 :CN103160854A ,2013-06-19

[4]

一种高纯铜靶材制备装置 [P].

韦建敏 ;

张晓蓓 ;

张小波 .

中国专利 :CN215315441U ,2021-12-28

[5]

一种高纯铜靶材制备装置 [P].

付莹 ;

于占东 ;

张鹏 ;

张居里 ;

孙栋 ;

孙敏 .

中国专利 :CN210968226U ,2020-07-10

[6]

高纯铜靶材制备装置 [P].

付莹 ;

聂士博 ;

张居里 .

中国专利 :CN209652411U ,2019-11-19

[7]

一种高纯铜粉的制备装置 [P].

付莹 .

中国专利 :CN207129644U ,2018-03-23

[8]

一种连续制备单晶高纯铜的装置 [P].

王俊 ;

丁旭 .

中国专利 :CN216514259U ,2022-05-13

[9]

一种制备高纯铜的装置与方法 [P].

李廷举 ;

付亚波 ;

刘宁 ;

陈洁 ;

卢一平 .

中国专利 :CN102031394A ,2011-04-27

[10]

一种半导体用高纯铜电解精炼装置 [P].

丁重山 ;

丁晓娈 ;

丁子来 ;

丁保锋 ;

程晓辉 .

中国专利 :CN221440899U ,2024-07-30

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