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半导体器件的金属栅极结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210455338.7
申请日
:
2012-11-13
公开(公告)号
:
CN103681670A
公开(公告)日
:
2014-03-26
发明(设计)人
:
简珮珊
巫凯雄
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L27092
IPC分类号
:
H01L29423
H01L2949
H01L2978
H01L218238
H01L2128
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;孙征
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-02-24
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581688792 IPC(主分类):H01L 27/092 专利申请号:2012104553387 申请日:20121113
2014-03-26
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件的金属栅极结构
[P].
朱鸣
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朱鸣
;
林慧雯
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林慧雯
;
庄学理
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庄学理
;
杨宝如
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杨宝如
;
黄渊圣
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黄渊圣
;
陈嘉仁
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陈嘉仁
;
陈昭成
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陈昭成
.
中国专利
:CN103066073B
,2013-04-24
[2]
CMOS半导体器件的金属栅极结构
[P].
庄学理
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庄学理
;
杨宝如
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杨宝如
;
朱鸣
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朱鸣
;
林慧雯
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林慧雯
;
张立伟
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张立伟
.
中国专利
:CN102637685B
,2012-08-15
[3]
具有金属栅极的半导体器件结构及其制备方法
[P].
平延磊
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平延磊
;
杨瑞鹏
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杨瑞鹏
;
肖德元
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肖德元
.
中国专利
:CN111128889A
,2020-05-08
[4]
金属栅极半导体器件
[P].
黄仁安
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黄仁安
;
朱鸣
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朱鸣
;
刘继文
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刘继文
.
中国专利
:CN103325670B
,2013-09-25
[5]
金属栅极、半导体器件及其制造方法
[P].
江涛
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江涛
.
中国专利
:CN109037046B
,2018-12-18
[6]
半导体器件中的栅极结构
[P].
赖蓓盈
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赖蓓盈
;
许家玮
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许家玮
;
侯承浩
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侯承浩
;
于雄飞
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于雄飞
;
徐志安
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徐志安
.
中国专利
:CN112582345A
,2021-03-30
[7]
半导体器件中的栅极结构
[P].
赖蓓盈
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
赖蓓盈
;
许家玮
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
许家玮
;
侯承浩
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
侯承浩
;
于雄飞
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
于雄飞
;
徐志安
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐志安
.
中国专利
:CN112582345B
,2025-05-13
[8]
CMOS半导体器件的金属栅极结构及其形成方法
[P].
朱鸣
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朱鸣
;
杨宝如
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杨宝如
;
庄学理
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庄学理
.
中国专利
:CN102891145A
,2013-01-23
[9]
制造金属栅极半导体器件的方法
[P].
钟升镇
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钟升镇
;
朱鸣
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朱鸣
;
林俊铭
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林俊铭
;
杨宝如
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杨宝如
;
庄学理
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庄学理
.
中国专利
:CN103367132B
,2013-10-23
[10]
栅极结构、半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
蔡俊雄
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蔡俊雄
;
游国丰
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游国丰
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詹前泰
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詹前泰
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方子韦
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方子韦
;
陈科维
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陈科维
;
杨怀德
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杨怀德
.
中国专利
:CN107017290A
,2017-08-04
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