半导体器件的金属栅极结构

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210455338.7
申请日
2012-11-13
公开(公告)号
CN103681670A
公开(公告)日
2014-03-26
发明(设计)人
简珮珊 巫凯雄
申请人
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L27092
IPC分类号
H01L29423 H01L2949 H01L2978 H01L218238 H01L2128
代理机构
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
章社杲;孙征
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的金属栅极结构 [P]. 
朱鸣 ;
林慧雯 ;
庄学理 ;
杨宝如 ;
黄渊圣 ;
陈嘉仁 ;
陈昭成 .
中国专利 :CN103066073B ,2013-04-24
[2]
CMOS半导体器件的金属栅极结构 [P]. 
庄学理 ;
杨宝如 ;
朱鸣 ;
林慧雯 ;
张立伟 .
中国专利 :CN102637685B ,2012-08-15
[3]
具有金属栅极的半导体器件结构及其制备方法 [P]. 
平延磊 ;
杨瑞鹏 ;
肖德元 .
中国专利 :CN111128889A ,2020-05-08
[4]
金属栅极半导体器件 [P]. 
黄仁安 ;
朱鸣 ;
刘继文 .
中国专利 :CN103325670B ,2013-09-25
[5]
金属栅极、半导体器件及其制造方法 [P]. 
江涛 .
中国专利 :CN109037046B ,2018-12-18
[6]
半导体器件中的栅极结构 [P]. 
赖蓓盈 ;
许家玮 ;
侯承浩 ;
于雄飞 ;
徐志安 .
中国专利 :CN112582345A ,2021-03-30
[7]
半导体器件中的栅极结构 [P]. 
赖蓓盈 ;
许家玮 ;
侯承浩 ;
于雄飞 ;
徐志安 .
中国专利 :CN112582345B ,2025-05-13
[8]
CMOS半导体器件的金属栅极结构及其形成方法 [P]. 
朱鸣 ;
杨宝如 ;
庄学理 .
中国专利 :CN102891145A ,2013-01-23
[9]
制造金属栅极半导体器件的方法 [P]. 
钟升镇 ;
朱鸣 ;
林俊铭 ;
杨宝如 ;
庄学理 .
中国专利 :CN103367132B ,2013-10-23
[10]
栅极结构、半导体器件以及形成半导体器件的方法 [P]. 
蔡俊雄 ;
游国丰 ;
詹前泰 ;
方子韦 ;
陈科维 ;
杨怀德 .
中国专利 :CN107017290A ,2017-08-04