半导体器件中的栅极结构

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011048544.7
申请日
2020-09-29
公开(公告)号
CN112582345B
公开(公告)日
2025-05-13
发明(设计)人
赖蓓盈 许家玮 侯承浩 于雄飞 徐志安
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H10D30/62
IPC分类号
H10D30/01
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
陈蒙
法律状态
专利权期限的补偿
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件中的栅极结构 [P]. 
赖蓓盈 ;
许家玮 ;
侯承浩 ;
于雄飞 ;
徐志安 .
中国专利 :CN112582345A ,2021-03-30
[2]
半导体器件中的栅极结构及其形成方法 [P]. 
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张文 ;
张翔笔 ;
赵皇麟 ;
程仲良 ;
徐志安 ;
李昆育 ;
沈泽民 ;
董彦佃 ;
吴俊毅 .
中国专利 :CN115360143A ,2022-11-18
[3]
半导体器件的金属栅极结构 [P]. 
简珮珊 ;
巫凯雄 .
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[4]
栅极结构、半导体器件以及形成半导体器件的方法 [P]. 
蔡俊雄 ;
游国丰 ;
詹前泰 ;
方子韦 ;
陈科维 ;
杨怀德 .
中国专利 :CN107017290A ,2017-08-04
[5]
半导体器件的栅极结构及其形成方法 [P]. 
李欣怡 ;
张文 ;
徐志安 .
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[6]
半导体器件中的栅极结构轮廓 [P]. 
高魁佑 ;
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张咏琪 ;
林志翰 ;
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[7]
半导体器件的金属栅极结构 [P]. 
朱鸣 ;
林慧雯 ;
庄学理 ;
杨宝如 ;
黄渊圣 ;
陈嘉仁 ;
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[8]
用于半导体器件的栅极结构 [P]. 
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[9]
制造金属栅极半导体器件的方法 [P]. 
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朱鸣 ;
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杨宝如 ;
庄学理 .
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[10]
半导体器件中的栅极结构的轮廓 [P]. 
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