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半导体器件中的栅极结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011048544.7
申请日
:
2020-09-29
公开(公告)号
:
CN112582345B
公开(公告)日
:
2025-05-13
发明(设计)人
:
赖蓓盈
许家玮
侯承浩
于雄飞
徐志安
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H10D30/62
IPC分类号
:
H10D30/01
代理机构
:
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人
:
陈蒙
法律状态
:
专利权期限的补偿
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-15
专利权期限的补偿
专利权期限补偿IPC(主分类):H10D 30/62申请日:20200929授权公告日:20250513原专利权期满终止日:20400929现专利权期满终止日:20410513
2025-05-13
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件中的栅极结构
[P].
赖蓓盈
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赖蓓盈
;
许家玮
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许家玮
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侯承浩
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侯承浩
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于雄飞
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于雄飞
;
徐志安
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徐志安
.
中国专利
:CN112582345A
,2021-03-30
[2]
半导体器件中的栅极结构及其形成方法
[P].
李欣怡
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李欣怡
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张文
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张文
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张翔笔
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张翔笔
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赵皇麟
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赵皇麟
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程仲良
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程仲良
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徐志安
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徐志安
;
李昆育
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李昆育
;
沈泽民
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沈泽民
;
董彦佃
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董彦佃
;
吴俊毅
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吴俊毅
.
中国专利
:CN115360143A
,2022-11-18
[3]
半导体器件的金属栅极结构
[P].
简珮珊
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简珮珊
;
巫凯雄
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巫凯雄
.
中国专利
:CN103681670A
,2014-03-26
[4]
栅极结构、半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
蔡俊雄
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蔡俊雄
;
游国丰
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游国丰
;
詹前泰
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詹前泰
;
方子韦
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方子韦
;
陈科维
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陈科维
;
杨怀德
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杨怀德
.
中国专利
:CN107017290A
,2017-08-04
[5]
半导体器件的栅极结构及其形成方法
[P].
李欣怡
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李欣怡
;
张文
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张文
;
徐志安
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徐志安
.
中国专利
:CN114566501A
,2022-05-31
[6]
半导体器件中的栅极结构轮廓
[P].
高魁佑
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
高魁佑
;
林士尧
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林士尧
;
邱志忠
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
邱志忠
;
廖展勤
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
廖展勤
;
林骏宇
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林骏宇
;
张咏琪
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张咏琪
;
林志翰
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林志翰
;
林敏巧
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林敏巧
.
中国专利
:CN119855228A
,2025-04-18
[7]
半导体器件的金属栅极结构
[P].
朱鸣
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朱鸣
;
林慧雯
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林慧雯
;
庄学理
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庄学理
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杨宝如
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杨宝如
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黄渊圣
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黄渊圣
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陈嘉仁
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陈嘉仁
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陈昭成
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陈昭成
.
中国专利
:CN103066073B
,2013-04-24
[8]
用于半导体器件的栅极结构
[P].
李宗霖
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李宗霖
;
袁锋
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袁锋
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叶致锴
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叶致锴
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赖韦仁
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赖韦仁
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中国专利
:CN103296086B
,2013-09-11
[9]
制造金属栅极半导体器件的方法
[P].
钟升镇
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钟升镇
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朱鸣
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朱鸣
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林俊铭
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林俊铭
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杨宝如
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杨宝如
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庄学理
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庄学理
.
中国专利
:CN103367132B
,2013-10-23
[10]
半导体器件中的栅极结构的轮廓
[P].
徐绍华
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐绍华
;
林佳仪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林佳仪
;
简垲旻
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
简垲旻
;
胡元正
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
胡元正
;
彭裕钧
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
彭裕钧
;
刘国庆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘国庆
;
陈嘉仁
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈嘉仁
.
中国专利
:CN119894048A
,2025-04-25
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