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双重图形化的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610738863.8
申请日
:
2016-08-26
公开(公告)号
:
CN107785252A
公开(公告)日
:
2018-03-09
发明(设计)人
:
王彦
张城龙
张海洋
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L21308
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
高静;吴敏
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-03-09
公开
公开
2021-03-09
授权
授权
2018-04-03
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/308 申请日:20160826
共 50 条
[1]
双重图形化方法
[P].
袁伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
袁伟
.
中国专利
:CN102129968A
,2011-07-20
[2]
双重图形化的方法
[P].
张城龙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张城龙
;
郑二虎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郑二虎
.
中国专利
:CN106960816A
,2017-07-18
[3]
双重图形化的形成方法
[P].
胡华勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡华勇
.
中国专利
:CN104752170B
,2015-07-01
[4]
一种双重图形化方法
[P].
易春艳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
易春艳
.
中国专利
:CN102881567A
,2013-01-16
[5]
采用双重图形化技术形成栅极的方法
[P].
刘畅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘畅
;
韩秋华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
韩秋华
.
中国专利
:CN105489480A
,2016-04-13
[6]
掩膜版及双重图形化法的方法
[P].
余云初
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
余云初
;
沈忆华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈忆华
;
潘见
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
潘见
;
傅丰华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
傅丰华
.
中国专利
:CN106610563A
,2017-05-03
[7]
三重图形化的方法
[P].
沈忆华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈忆华
;
余云初
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
余云初
.
中国专利
:CN107785242A
,2018-03-09
[8]
自对准双重图形化方法及其形成的半导体结构
[P].
刘继全
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘继全
.
中国专利
:CN111524795A
,2020-08-11
[9]
自对准双重图形化方法及其形成的半导体结构
[P].
刘继全
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
刘继全
.
中国专利
:CN111524795B
,2024-02-27
[10]
多重图形化掩膜的制备方法
[P].
鲍宇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
鲍宇
;
周海锋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周海锋
.
中国专利
:CN106783557B
,2017-05-31
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