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高频电源及等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010070264.X
申请日
:
2020-01-21
公开(公告)号
:
CN111524781A
公开(公告)日
:
2020-08-11
发明(设计)人
:
久保田绅治
道菅隆
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
任玉敏
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200121
2020-08-11
公开
公开
共 50 条
[1]
高频电源及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保田绅治
;
道菅隆
论文数:
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
道菅隆
.
日本专利
:CN111524781B
,2024-06-14
[2]
高频等离子体处理装置和高频等离子体处理方法
[P].
东条利洋
论文数:
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0
东条利洋
;
佐佐木和男
论文数:
0
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佐佐木和男
.
中国专利
:CN104882376B
,2015-09-02
[3]
等离子体处理装置、高频电源的校正方法、高频电源
[P].
佐藤贤司
论文数:
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0
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0
佐藤贤司
.
中国专利
:CN101277578B
,2008-10-01
[4]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
岩濑拓
论文数:
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岩濑拓
;
荒濑高男
论文数:
0
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荒濑高男
;
寺仓聪志
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寺仓聪志
;
渡边勇人
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渡边勇人
;
森政士
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森政士
.
中国专利
:CN111373511A
,2020-07-03
[5]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
青木裕介
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
青木裕介
;
户花敏胜
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
户花敏胜
;
高田郁弥
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高田郁弥
;
森北信也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森北信也
;
藤原一延
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤原一延
;
阿部淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
阿部淳
;
永海幸一
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
.
日本专利
:CN119092390A
,2024-12-06
[6]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
论文数:
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
久保田绅治
;
永关一也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
;
永海幸一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
.
日本专利
:CN121148980A
,2025-12-16
[7]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
玉虫元
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玉虫元
;
井上雅博
论文数:
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井上雅博
.
中国专利
:CN113078040A
,2021-07-06
[8]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
青木裕介
论文数:
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0
青木裕介
;
户花敏胜
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0
户花敏胜
;
高田郁弥
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高田郁弥
;
森北信也
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0
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森北信也
;
藤原一延
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藤原一延
;
阿部淳
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阿部淳
;
永海幸一
论文数:
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永海幸一
.
中国专利
:CN112103165A
,2020-12-18
[9]
等离子体处理装置及等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
;
上坂友佑人
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
上坂友佑人
.
日本专利
:CN120188576A
,2025-06-20
[10]
等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
久保田绅治
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久保田绅治
;
永关一也
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永关一也
;
桧森慎司
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桧森慎司
;
永海幸一
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永海幸一
.
中国专利
:CN112951698A
,2021-06-11
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