用于沉积金属氧化物膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780102346.0

申请日：

2007-12-19

公开(公告)号：

CN101970709A

公开(公告)日：

2011-02-09

发明(设计)人：

卡洛·塔利亚尼彼得·诺扎尔

申请人：

申请人地址：

意大利波洛尼亚

IPC主分类号：

C23C1430

IPC分类号：

C23C1408

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

李丙林;张英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101059702063 IPC(主分类):C23C 14/30 专利申请号:2007801023460 申请日:20071219
2011-02-09	公开	公开
2013-06-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101618224188 IPC(主分类):C23C 14/30 专利申请号:2007801023460 申请公布日:20110209

共 50 条

[1]

混合金属氧化物阻挡膜和用于制备混合金属氧化物阻挡膜的原子层沉积方法 [P].

E.R.迪基 .

中国专利 :CN103827350A ,2014-05-28

[2]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

中国专利 :CN105779940A ,2016-07-20

[3]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

中国专利 :CN105734493B ,2016-07-06

[4]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

中国专利 :CN105870196A ,2016-08-17

[5]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

中国专利 :CN109065553A ,2018-12-21

[6]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

中国专利 :CN104769150A ,2015-07-08

[7]

金属氧化物膜及金属氧化物膜的形成方法 [P].

高桥正弘 ;

广桥拓也 ;

津吹将志 ;

石原典隆 ;

太田将志 .

日本专利 :CN109065553B ,2025-07-01

[8]

制造金属氧化物膜的方法和包括金属氧化物膜的显示装置 [P].

许明洙 ;

高东均 ;

金圣哲 ;

金友镇 ;

卢喆来 ;

朴瑾禧 .

中国专利 :CN109666920A ,2019-04-23

[9]

沉积金属和金属氧化物膜以及图案薄膜的方法 [P].

R·H·希尔 ;

石有茂 .

中国专利 :CN1439060A ,2003-08-27

[10]

金属氧化物的沉积方法 [P].

山崎舜平 ;

挂端哲弥 ;

川上祥子 ;

井坂史人 ;

惠木勇司 .

日本专利 :CN117403206A ,2024-01-16

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