一种大面积数字光刻光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410328696.0

申请日：

2014-07-11

公开(公告)号：

CN104142613A

公开(公告)日：

2014-11-12

发明(设计)人：

刘海勇周金运刘丽霞雷亮

申请人：

申请人地址：

510006 广东省广州市番禺区广州大学城外环西路100号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司 44102

代理人：

林丽明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-12	公开	公开
2014-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101590948230 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014103286960 申请日:20140711
2016-08-17	授权	授权

共 50 条

[1]

一种大面积TFT光刻装置 [P].

周金运 ;

王新星 ;

雷亮 ;

林清华 ;

裴文彦 .

中国专利 :CN202306140U ,2012-07-04

[2]

大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统 [P].

仲跻功 .

中国专利 :CN2074024U ,1991-03-27

[3]

一种大面积TFT光刻装置及其光刻方法 [P].

周金运 ;

王新星 ;

雷亮 ;

林清华 ;

裴文彦 .

中国专利 :CN102368138A ,2012-03-07

[4]

实现大面积均匀点亮效果的光学系统 [P].

陈晟 .

中国专利 :CN209130777U ,2019-07-19

[5]

实现大面积均匀点亮效果的光学系统 [P].

陈晟 .

中国专利 :CN109519869A ,2019-03-26

[6]

一种光纤耦合光学系统 [P].

崔小强 ;

李海速 ;

朱诚 ;

王源 ;

郑家凤 ;

李升辉 .

中国专利 :CN206833037U ,2018-01-02

[7]

微光刻投影光学系统 [P].

H-J.曼恩 ;

W.乌尔里希 ;

M.普莱托里尔斯 .

中国专利 :CN103076723A ,2013-05-01

[8]

一种投影光学系统 [P].

刘治新 ;

吴中雄 ;

王吉文 .

中国专利 :CN102654645A ,2012-09-05

[9]

一种光刻照明光学系统 [P].

胡斌 .

中国专利 :CN102566294A ,2012-07-11

[10]

一种大面积投影光刻系统 [P].

雷亮 ;

周金运 ;

陈丽 ;

魏威 ;

江文龙 .

中国专利 :CN202133858U ,2012-02-01

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