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Cu-Ga合金溅射靶及Cu-Ga合金溅射靶的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880014267.2
申请日
:
2018-12-19
公开(公告)号
:
CN110337508A
公开(公告)日
:
2019-10-15
发明(设计)人
:
森晓
梅本启太
桥本周
武田拓真
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
C23C1434
IPC分类号
:
B22F310
C22C104
C22C105
C22C900
H01L310749
代理机构
:
北京德琦知识产权代理有限公司 11018
代理人
:
朴圣洁;王珍仙
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-08-04
授权
授权
2019-10-15
公开
公开
2019-11-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20181219
共 50 条
[1]
Cu-Ga合金溅射靶及Cu-Ga合金溅射靶的制造方法
[P].
森晓
论文数:
0
引用数:
0
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0
森晓
;
武田拓真
论文数:
0
引用数:
0
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0
武田拓真
.
中国专利
:CN111492091A
,2020-08-04
[2]
Cu-Ga合金溅射靶的制造方法及Cu-Ga合金溅射靶
[P].
吉田勇气
论文数:
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0
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0
吉田勇气
;
植田稔晃
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植田稔晃
;
森晓
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0
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0
森晓
.
中国专利
:CN108603280B
,2018-09-28
[3]
Cu-Ga合金溅射靶以及Cu-Ga合金溅射靶的制造方法
[P].
吉田勇气
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0
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0
吉田勇气
;
植田稔晃
论文数:
0
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植田稔晃
;
森晓
论文数:
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森晓
.
中国专利
:CN107429384B
,2017-12-01
[4]
Cu-Ga合金溅射靶的制造方法以及Cu-Ga合金溅射靶
[P].
横林贞之
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0
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0
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0
横林贞之
.
中国专利
:CN102451910A
,2012-05-16
[5]
Cu-Ga溅射靶及Cu-Ga溅射靶的制造方法
[P].
梅本启太
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梅本启太
;
井尾谦介
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井尾谦介
;
张守斌
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张守斌
;
盐野一郎
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0
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盐野一郎
.
中国专利
:CN109563614A
,2019-04-02
[6]
Cu-Ga合金溅射靶
[P].
桥本周
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桥本周
;
梅本启太
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梅本启太
;
白井孝典
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白井孝典
;
武田拓真
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武田拓真
;
浦山恒太郎
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浦山恒太郎
.
中国专利
:CN111771012A
,2020-10-13
[7]
Cu-Ga合金以及Cu-Ga合金溅射靶
[P].
失野智泰
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0
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0
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失野智泰
.
中国专利
:CN102959107A
,2013-03-06
[8]
Cu-Ga合金溅射靶
[P].
卫藤雅俊
论文数:
0
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0
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卫藤雅俊
.
中国专利
:CN105274481A
,2016-01-27
[9]
Cu-Ga合金、溅射靶、Cu-Ga合金的制造方法以及溅射靶的制造方法
[P].
平本雄一
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平本雄一
;
外木达也
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0
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外木达也
.
中国专利
:CN101906552A
,2010-12-08
[10]
Cu-Ga合金溅射靶材
[P].
卫藤雅俊
论文数:
0
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0
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0
卫藤雅俊
.
中国专利
:CN106011755B
,2016-10-12
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