微电子衬底的清洗组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580026242.7

申请日：

2005-06-23

公开(公告)号：

CN1993457B

公开(公告)日：

2007-07-04

发明(设计)人：

肖恩·M·凯恩

申请人：

申请人地址：

美国新泽西州

IPC主分类号：

C11D1100

IPC分类号：

G03F742 H05K326 C11D320 C11D330 C11D726 C11D732 C11D343 C11D750

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

封新琴;巫肖南

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-31	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752092303 IPC(主分类):C11D 11/00 专利号:ZL2005800262427 登记生效日:20170508 变更事项:专利权人变更前权利人:安万托特性材料股份有限公司变更后权利人:安万托特性材料有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国新泽西州变更后权利人:美国宾夕法尼亚州
2007-08-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-01-30	授权	授权
2007-07-04	公开	公开

共 50 条

[1]

用于微电子的剥离和清洗组合物 [P].

肖恩·M·凯恩 ;

金尚仁 .

中国专利 :CN1580221B ,2005-02-16

[2]

纳米电子和微电子清洗组合物 [P].

许建斌 .

中国专利 :CN1961065A ,2007-05-09

[3]

用于清洗微电子衬底的含硅酸盐碱性组合物 [P].

D·C·斯基 .

中国专利 :CN100370360C ,2001-08-22

[4]

具有铜/唑类聚合物抑制作用的微电子衬底清洁组合物 [P].

C-P.S.许 .

中国专利 :CN103975052A ,2014-08-06

[5]

用于清洗微电子基底的稳定的碱性组合物 [P].

D·C·斯基 .

中国专利 :CN1205325C ,2004-01-21

[6]

基于多用途酸性有机溶剂的微电子清洗组合物 [P].

许建斌 ;

G.韦斯特伍德 ;

W.R.格米尔 .

中国专利 :CN102334069A ,2012-01-25

[7]

包含无氨氟化物盐的微电子清洗组合物 [P].

奇恩-平·S·许 .

中国专利 :CN100513545C ,2004-09-01

[8]

微电子基底清洁组合物 [P].

威廉·R·格米尔 .

中国专利 :CN101959977A ,2011-01-26

[9]

微电子装置清洁组合物 [P].

刘俊 ;

王朝钰 ;

D·怀特 ;

M·L·怀特 .

美国专利 :CN119032157A ,2024-11-26

[10]

微电子装置清洁组合物 [P].

A·K·达斯 ;

D·怀特 ;

M·L·怀特 ;

刘俊 ;

A·D·维尔马 .

美国专利 :CN118369411A ,2024-07-19

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