光掩模坯以及光掩模的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710120181.5

申请日：

2017-03-02

公开(公告)号：

CN107153325A

公开(公告)日：

2017-09-12

发明(设计)人：

高坂卓郎稻月判臣金子英雄

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F154

IPC分类号：

G03F146

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

杜丽利

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-12	公开	公开
2019-03-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/54 申请日:20170302

共 50 条

[1]

光掩模坯、光掩模以及光掩模的制造方法 [P].

松井一晃 ;

小岛洋介 .

日本专利 :CN118401890A ,2024-07-26

[2]

光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法 [P].

山田慎吾 ;

森山久美子 ;

美作昌宏 .

中国专利 :CN108693697B ,2018-10-23

[3]

光掩模坯、制备方法和光掩模 [P].

深谷创一 ;

五十岚慎一 ;

吉井崇 .

中国专利 :CN106547167A ,2017-03-29

[4]

掩模坯的制造方法、掩模坯、光掩模的制造方法及光掩模 [P].

铃木寿弘 ;

细谷守男 ;

金井修一郎 ;

中畦修 .

中国专利 :CN115698849A ,2023-02-03

[5]

掩模坯的制造方法、掩模坯及光掩模 [P].

望月圣 ;

汐崎英治 ;

関根正弘 ;

东小由里 ;

山田慎吾 ;

森山久美子 .

日本专利 :CN117331276A ,2024-01-02

[6]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN102654730A ,2012-09-05

[7]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN103809369B ,2014-05-21

[8]

光掩模坯、光掩模及其制作方法 [P].

吉川博树 ;

洼田宽 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

丸山保 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN1900819A ,2007-01-24

[9]

掩模坯及光掩模 [P].

江成雄一 ;

望月圣 ;

浅见智史 .

中国专利 :CN112578629A ,2021-03-30

[10]

掩模坯及光掩模 [P].

江成雄一 ;

汐崎英治 ;

望月圣 ;

关根正弘 .

日本专利 :CN120595533A ,2025-09-05

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