多室化学气相沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201720363485.X

申请日：

2016-08-31

公开(公告)号：

CN206646165U

公开(公告)日：

2017-11-17

发明(设计)人：

乔治·帕帕索利奥蒂斯米格尔·索尔达娜布雷特·斯诺登尤利·拉什科夫斯基迈克尔·佩奇

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王艳江;严小艳

法律状态：

授权

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-17	授权	授权

共 50 条

[1]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN206127419U ,2017-04-26

[2]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN106498366A ,2017-03-15

[3]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[4]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[5]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[7]

一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统 [P].

张明倩 ;

于金凤 .

中国专利 :CN215517629U ,2022-01-14

[8]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

[9]

化学气相沉积系统 [P].

钟瑞伦 ;

吴俊鹏 .

中国专利 :CN211522317U ,2020-09-18

[10]

化学气相沉积系统 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101760728B ,2010-06-30

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