一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202122181578.X

申请日：

2021-09-10

公开(公告)号：

CN215517629U

公开(公告)日：

2022-01-14

发明(设计)人：

张明倩于金凤

申请人：

申请人地址：

239064 安徽省滁州市琅琊经济开发区南京路100号

IPC主分类号：

C23C1654

IPC分类号：

C23C1630 C23C16455

代理机构：

北京天盾知识产权代理有限公司 11421

代理人：

肖小龙

法律状态：

授权

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-14	授权	授权

共 50 条

[1]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN206127419U ,2017-04-26

[2]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN206646165U ,2017-11-17

[3]

一种化学气相沉积室及沉积系统 [P].

陈毅明 ;

于金凤 .

中国专利 :CN216155961U ,2022-04-01

[4]

多室化学气相沉积系统 [P].

乔治·帕帕索利奥蒂斯 ;

米格尔·索尔达娜 ;

布雷特·斯诺登 ;

尤利·拉什科夫斯基 ;

迈克尔·佩奇 .

中国专利 :CN106498366A ,2017-03-15

[5]

化学气相沉积腔室 [P].

余华华 .

中国专利 :CN110016656A ,2019-07-16

[6]

反应腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨盟 .

中国专利 :CN101921995B ,2010-12-22

[7]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[8]

一种化学气相沉积腔室 [P].

窦沛静 ;

丁媛 ;

李英英 ;

罗怡蕾 ;

刘鑫 .

中国专利 :CN221971675U ,2024-11-08

[9]

一种多腔室石墨沉积装置及化学气相沉积炉 [P].

朱刘 ;

朱巨才 ;

于金凤 ;

吴伟平 ;

陈松 ;

李钦 .

中国专利 :CN203834014U ,2014-09-17

[10]

反应腔室以及化学气相沉积设备 [P].

顾武强 ;

潘琦 .

中国专利 :CN104878367A ,2015-09-02

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