化学气相沉积腔室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910436522.9

申请日：

2019-05-23

公开(公告)号：

CN110016656A

公开(公告)日：

2019-07-16

发明(设计)人：

余华华

申请人：

申请人地址：

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1646

代理机构：

深圳市德力知识产权代理事务所 44265

代理人：

林才桂;刘巍

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-08-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20190523
2019-07-16	公开	公开
2021-02-26	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/455 变更事项:专利权人变更前:深圳市华星光电技术有限公司变更后:TCL华星光电技术有限公司变更事项:地址变更前:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号变更后:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
2020-11-24	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积优化腔室 [P].

王一喆 ;

岳振明 ;

宫建红 ;

李玉森 ;

高建东 ;

高军 .

中国专利 :CN110241401A ,2019-09-17

[2]

反应腔室以及化学气相沉积设备 [P].

顾武强 ;

潘琦 .

中国专利 :CN104878367A ,2015-09-02

[3]

反应腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨盟 .

中国专利 :CN101921995B ,2010-12-22

[4]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[5]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01

[6]

一种化学气相沉积腔室 [P].

窦沛静 ;

丁媛 ;

李英英 ;

罗怡蕾 ;

刘鑫 .

中国专利 :CN221971675U ,2024-11-08

[7]

工艺腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨晓亮 ;

公茂江 ;

杜罡 .

中国专利 :CN222990213U ,2025-06-17

[8]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324A ,2021-01-05

[9]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[10]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324B ,2025-03-25

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