一种化学气相沉积腔室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420580084.X

申请日：

2024-03-25

公开(公告)号：

CN221971675U

公开(公告)日：

2024-11-08

发明(设计)人：

窦沛静丁媛李英英罗怡蕾刘鑫

申请人：

明德润和半导体设备（天津）有限公司

申请人地址：

300000 天津市津南区咸水沽镇中宁道40号-1

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

代理机构：

北京华权瀛晟专利代理事务所(普通合伙) 16285

代理人：

段艳艳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-08	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积优化腔室 [P].

王一喆 ;

岳振明 ;

宫建红 ;

李玉森 ;

高建东 ;

高军 .

中国专利 :CN110241401A ,2019-09-17

[2]

化学气相沉积腔室 [P].

余华华 .

中国专利 :CN110016656A ,2019-07-16

[3]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[4]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

王祥 ;

费磊 .

中国专利 :CN114016003A ,2022-02-08

[5]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

王祥 ;

费磊 .

中国专利 :CN114016003B ,2024-01-09

[6]

一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统 [P].

张明倩 ;

于金凤 .

中国专利 :CN215517629U ,2022-01-14

[7]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01

[8]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[9]

一种化学气相沉积腔室和生产系统 [P].

姚明彩 ;

涂飞飞 ;

王新胜 .

中国专利 :CN223522661U ,2025-11-07

[10]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

于大洋 ;

费磊 ;

李世敏 ;

郭付成 .

中国专利 :CN114164414B ,2022-03-11

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